[發明專利]一種圓角曲線繪制方法、電子設備及存儲介質

在審

• 申請號: 202010724771.0
• 申請日: 2020-07-24
• 公開（公告）號: CN113971707A
• 公開（公告）日: 2022-01-25
• 發明（設計）人: 陳浩波
• 申請（專利權）人: 深圳市萬普拉斯科技有限公司
• 主分類號: G06T11/20
• 分類號: G06T11/20
• 代理公司: 深圳市六加知識產權代理有限公司 44372
• 代理人: 孟麗平

1.一種圓角曲線繪制方法，應用于電子設備，其特征在于，所述方法包括：

獲取圓角控件的繪制參數，其中，所述圓角控件中包含有至少一條圓角曲線，以及與所述圓角曲線連接的第一直邊和第二直邊，所述繪制參數包括所述圓角曲線的圓角半徑；

根據所述圓角半徑獲取N個曲率半徑，其中，N為大于0的自然數；

根據所述繪制參數以及N個所述曲率半徑，繪制M條貝塞爾曲線，其中，M為大于0的自然數,N為M的倍數；

依次連接M條所述貝塞爾曲線，以形成目標圓角曲線。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述圓角半徑獲取N個曲率半徑，包括：

根據所述圓角半徑和高斯概率分布獲取N個曲率半徑。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述繪制參數還包括所述圓角控件的寬和高；

在所述根據所述圓角半徑獲取N個曲率半徑之前，所述方法還包括：

確定所述圓角曲線的寬或所述圓角曲線的高是否小于所述圓角半徑；

若是，則將預存的圓角半徑閾值設置為所述圓角半徑。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述繪制參數還包括所述第一直邊的位置坐標和所述第二直邊的位置坐標；

所述根據所述繪制參數以及N個所述曲率半徑，繪制M條貝塞爾曲線，包括：

根據所述第一直邊的位置坐標、所述第二直邊的位置坐標、所述圓角控件的高及N個所述曲率半徑，獲取所述貝塞爾曲線的起始點坐標、控制點坐標以及終止點坐標；

將所述起始點坐標、所述控制點坐標及所述終止點坐標代入所述貝塞爾曲線的繪制函數，以依次繪制出對應的貝塞爾曲線。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據所述第一直邊的位置坐標、所述第二直邊的位置坐標、所述圓角控件的高及N個所述曲率半徑，獲取所述貝塞爾曲線的起始點坐標、控制點坐標以及終止點坐標，包括：

根據下述公式計算所述貝塞爾曲線的起始點坐標、控制點坐標及終止點坐標：

其中，為起始點的橫坐標，起始點的縱坐標，為控制點的橫坐標，控制點的縱坐標，為終止點的橫坐標，為終止點的縱坐標，R為圓角半徑，x₁為第一直邊的橫坐標，y₂為第二直邊的縱坐標，Height為圓角控件的高，r_i為第i個曲率半徑，i為大于0的自然數。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

依次將所述第一直邊、所述目標圓角曲線及所述第二直邊順序連接，以繪制出所述圓角控件的至少一個圓角。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述依次將所述第一直邊、所述目標圓角曲線及所述第二直邊順序連接，以繪制出所述圓角控件的至少一個圓角，包括：

確定所述目標圓角曲線在所述第一直邊的繪制起點的縱坐標，依次將所述繪制起點、所述目標圓角曲線及所述第二直邊順序連接。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述繪制起點的縱坐標為：

Y_起：Width/2-R；

其中，Y_起為所述目標圓角曲線的繪制起點的縱坐標，Width為圓角控件的寬，R為圓角曲線的圓角半徑。

9.根據權利要求1-8任一項所述的方法，其特征在于，所述貝塞爾曲線為二階貝塞爾曲線；

當所述貝塞爾曲線為二階貝塞爾曲線時，N具體取值為18，M具體取值為6。

10.一種電子設備，其特征在于，包括：

一個或多個處理器；

存儲裝置，其上存儲有一個或多個程序，

當所述一個或多個程序被所述一個或多個處理器執行，使得所述一個或多個處理器實現如權利要求1-9中任一項所述的方法。

11.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，所述可讀存儲介質上存儲有計算機程序，其中，該程序被處理器執行時實現如權利要求1-9中任一項所述的方法。