[發明專利]一種增強現實波導鏡片及其制作方法

在審

• 申請號: 202010724767.4
• 申請日: 2020-07-24
• 公開（公告）號: CN113970847A
• 公開（公告）日: 2022-01-25
• 發明（設計）人: 羅明輝;喬文;李瑞彬;方宗豹;陳林森
• 申請（專利權）人: 蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司;蘇州維旺科技有限公司
• 主分類號: G02B27/01
• 分類號: G02B27/01;G02B6/122;G02B6/13;G02B6/132;G03F7/16;G03F7/00
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 周志中

1.一種增強現實波導鏡片，其特征在于，包括波導襯底、設置在所述波導襯底表面的漸變折射率層，以及設置在所述漸變折射率層遠離所述波導襯底一側表面具有納米結構的功能區，所述波導襯底的折射率大于所述功能區域的折射率，所述漸變折射率層的折射率變化自所述波導襯底往所述功能區方向逐步遞減。

2.如權利要求1所述的增強現實波導鏡片，其特征在于，所述折射率變化呈線性或非線性的逐步遞減。

3.如權利要求1或2所述的增強現實波導鏡片，其特征在于，所述波導襯底的折射率不小于1.6，所述功能區的折射率不小于1.4，所述漸變折射率層的漸變范圍在所述波導襯底的折射率和所述功能區的折射率之間。

4.如權利要求1所述的增強現實波導鏡片，其特征在于，所述漸變折射率層的大小不小于所述功能區域所覆蓋的區域。

5.如權利要求1或4所述的增強現實波導鏡片，其特征在于，所述功能區包括將圖像光線耦入至所述波導襯底的耦入區域和經所述波導襯底全反射的圖像光線耦出至人眼的耦出區域。

6.一種增強現實波導鏡片的制作方法，其特征在于，該方法包括：

提供一波導襯底；

在所述波導基底上制備漸變折射率層；

在所述漸變折射率層遠離所述波導襯底一側表面制備一光刻膠層；

在所述光刻膠層上制備具有納米結構的功能區。

7.如權利要求6所述的增強現實波導鏡片的制作方法，其特征在于，在所述形成漸變折射率層步驟中，將兩種或兩種以上的混合材料通過單源混蒸或雙源混蒸或多源共蒸的鍍膜方式在所述波導襯底表面制備所述漸變折射率層，在此過程中，控制所述混合材料的混合比例及鍍膜速率，以控制所述折射率層的漸變梯度。

8.如權利要求7所述的增強現實波導鏡片的制作方法，其特征在于，所述混合材料包括五氧化二鈮、二氧化鋯、五氧化二鉭、二氧化鉿、二氧化硅、二氧化鈦中的其中一種或多種。

9.如權利要求6所述的增強現實波導鏡片的制作方法，其特征在于，在所述制備一光刻膠層的步驟中，采用旋涂或噴涂或刮涂的方式將光刻膠覆蓋在所述漸變折射率層遠離所述波導襯底一側表面形成所述光刻膠層。

10.如權利要求6所述的增強現實波導鏡片的制作方法，其特征在于，在所述制備納米結構的步驟中，通過光刻的方式在所述光刻膠層形成納米結構，并清除多余的光刻膠層，以此形成所述具有納米結構的功能區。

11.如權利要求6所述的增強現實波導鏡片的制作方法，其特征在于，在所述制備納米結構的步驟中，先提供一母版，再將所述母版壓印在所述光刻膠層上，使所述母版的結構轉移至所述光刻膠層，固化后將所述母版與所述光刻膠層分離，在所述光刻膠層上形成納米結構。