[發(fā)明專利]一種具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片及其制作方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010724752.8
• 申請(qǐng)日: 2020-07-24
• 公開（公告）號(hào): CN113970809A
• 公開（公告）日: 2022-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅明輝;喬文;陳林森
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州蘇大維格科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B6/136
• 分類號(hào): G02B6/136;G02B6/13;G02B6/124;G02B27/01
• 代理公司: 上海波拓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31264
• 代理人: 周志中

1.一種具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片的制作方法，其特征在于，該方法包括：

提供一波導(dǎo)基底；

在所述波導(dǎo)基底的表面至少選擇2個(gè)區(qū)域，在所述區(qū)域制備不連續(xù)的覆蓋層；

采用傾斜刻蝕的方式對(duì)所述區(qū)域未被所述覆蓋層遮擋的部分進(jìn)行蝕刻，在所述區(qū)域內(nèi)形成多個(gè)傾斜納米結(jié)構(gòu)；

除去所述覆蓋層。

2.如權(quán)利要求1所述的具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片的制作方法，其特征在于，制備所述覆蓋層的步驟包括：

采用旋涂或噴涂或刮涂的方式在所述波導(dǎo)基底上覆蓋一層光刻膠形成光刻膠層；

對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行圖形化處理，在所述區(qū)域獲得具備所需圖形形貌的圖形光刻膠，以及裸露所述波導(dǎo)基底表面的圖形凹槽；

采用鍍膜工藝對(duì)所述圖形光刻膠和所述圖形凹槽進(jìn)行鍍膜；

除去覆蓋在所述圖形光刻膠上的鍍膜及所述圖形光刻膠，得到覆蓋所述圖形凹槽的所述覆蓋層。

3.如權(quán)利要求2所述的具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片的制作方法，其特征在于，所述圖形化處理為對(duì)所述光刻膠層采用干涉光刻或全息曝光或套刻工藝以在所述波導(dǎo)基底上形成所述圖形光刻膠和所述圖形凹槽。

4.如權(quán)利要求2所述的具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片的制作方法，其特征在于，所述鍍膜工藝包括蒸發(fā)鍍膜或?yàn)R射鍍膜或化學(xué)還原。

5.如權(quán)利要求2所述的具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片的制作方法，其特征在于，所述波導(dǎo)基底的材質(zhì)為可見光高透明的材料；所述覆蓋層材質(zhì)為刻蝕速率與所述波導(dǎo)基底的材質(zhì)刻蝕速率比小于1：2的材料，以保證所述波導(dǎo)基底的刻蝕深度。

6.一種具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片，其特征在于，包括波導(dǎo)基底，在所述波導(dǎo)基底的表面至少設(shè)有2個(gè)區(qū)域，每一區(qū)域包括多個(gè)所述傾斜納米結(jié)構(gòu)。

7.如權(quán)利要求6所述的具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片，其特征在于，同一區(qū)域的多個(gè)傾斜納米結(jié)構(gòu)的傾斜角和深度相同，不同區(qū)域的傾斜納米結(jié)構(gòu)的傾斜角和深度相同或不同。

8.如權(quán)利要求6所述的具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片，其特征在于，多個(gè)所述傾斜納米結(jié)構(gòu)形成光柵結(jié)構(gòu)或點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)。

9.如權(quán)利要求8所述的具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片，其特征在于，當(dāng)多個(gè)所述傾斜納米結(jié)構(gòu)形成所述光柵結(jié)構(gòu)時(shí)，所述光柵結(jié)構(gòu)的深度為50nm～500nm，占空比為0.1～0.7，傾斜角為10°～60°，周期為360nm～510nm。

10.如權(quán)利要求6所述的具有傾斜納米結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)鏡片，其特征在于，所述波導(dǎo)基底的材質(zhì)為可見光波段透過率不低于80％的材料。