[發明專利]顯示基板及其制作方法

在審

• 申請號: 202010722716.8
• 申請日: 2020-07-24
• 公開（公告）號: CN111816789A
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 顧仁權;王燦;黃海濤;王利波;岳陽;姚琪
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32;G02F1/1335
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 王婷;姜春咸

1.一種顯示基板，包括發光基板，所述發光基板包括多個發光區，每個所述發光區上設置有發光層，其特征在于，還包括限定層和多個微透鏡，其中，所述限定層設置在所述發光基板上，且包括多個鏤空部，各個所述鏤空部與各個所述發光區一一對應地設置；并且，各個所述微透鏡一一對應地設置在各個所述鏤空部中。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述發光基板還包括第一平坦化層，所述第一平坦化層設置在所述發光層上方，所述限定層設置在所述第一平坦化層上；

所述顯示基板還包括第二平坦化層，所述第二平坦化層設置在所述限定層上，并完全覆蓋所述微透鏡。

3.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述第一平坦化層的折射率、所述微透鏡的折射率、所述第二平坦化層的折射率及所述微透鏡的曲率半徑、所述微透鏡的焦距、所述微透鏡的口徑均滿足以下條件：

其中，n₁為所述第一平坦化層的折射率；n₂所述微透鏡的折射率；n₃所述第二平坦化層的折射率；r為所述微透鏡的曲率半徑；f為所述微透鏡的焦距；D為所述微透鏡的口徑。

4.根據權利要求1-3任一項所述的顯示基板，其特征在于，所述微透鏡的材料包括負性光刻膠。

5.根據權利要求1-3任一項所述的顯示基板，其特征在于，所述限定層的材料包括金屬氧化物。

6.根據權利要求1-3任一項所述的顯示基板，其特征在于，還包括彩膜基板，所述彩膜基板設置在所述發光基板上，所述微透鏡設置在所述彩膜基板上，所述彩膜基板包括多個彩色濾光區，每個所述彩色濾光區上設置有彩色濾光層，各個所述彩色濾光層與各個所述發光層一一對應地設置。

7.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括：

在發光基板上形成限定層；其中，所述發光基板包括多個發光區，每個所述發光區上設置有發光層，所述限定層包括多個鏤空部，各個所述鏤空部與各個所述發光區一一對應地設置；

在所述鏤空部中形成微透鏡，使各個所述微透鏡與各個所述發光區一一對應。

8.根據權利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述在發光基板上形成限定層，進一步包括：

在所述發光基板上沉積整層膜層；

對所述整層膜層進行圖形化，以得到包括多個鏤空部的限定層，且使各個所述鏤空部與各個所述發光區一一對應。

9.根據權利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述在所述鏤空部中形成微透鏡，使各個所述微透鏡與各個所述發光區一一對應，進一步包括：

在所述發光基板上形成整層微透鏡基層；其中，所述微透鏡基層完全覆蓋所述限定層，且所述微透鏡基層的厚度大于或等于所述微透鏡的厚度；

在所述微透鏡基層上形成微透鏡掩模層；其中，所述微透鏡掩模層包括多個微透鏡掩模，且各個所述微透鏡掩模與各個所述發光區一一對應；

對所述微透鏡掩模層進行刻蝕，并以所述微透鏡掩模層為掩模對所述微透鏡基層進行刻蝕，直至刻蝕到所述限定層，以得到多個所述微透鏡，且使各個所述微透鏡與各個所述發光區一一對應。

10.根據權利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述在所述微透鏡基層上形成微透鏡掩模層，進一步包括：

在所述微透鏡基層上形成整層回流層；其中，所述整層回流層完全覆蓋所述微透鏡基層；

對所述整層回流層進行圖形化，以得到多個子回流層，并使各個所述子回流層與各個所述發光區一一對應；

對所述子回流層進行熱回流，對應每個所述子回流層形成一個所述微透鏡掩模，使得各個所述微透鏡掩模與各個所述發光區一一對應，以形成包括多個所述微透鏡掩模的所述微透鏡掩模層。