[發(fā)明專利]基于萘環(huán)的精確自降解兩親性嵌段寡聚物、合成方法及其應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010722020.5 | 申請日: | 2020-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN111848947B | 公開(公告)日: | 2021-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉世勇;呂長柱 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號: | C08G65/48 | 分類號: | C08G65/48;C07C271/30;C07C269/02;C08G83/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 關(guān)旭穎 |
| 地址: | 230026 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 精確 降解 兩親性嵌段寡聚物 合成 方法 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種式1的兩親性嵌段寡聚物,
其中,
n為1、2、3或4,并且
R選自:
2.一種制備根據(jù)權(quán)利要求1所述的兩親性嵌段寡聚物的方法,所述方法包括:
(1)使式(i)的單體與式(ii)的光觸發(fā)基元反應(yīng),得到的產(chǎn)物在對甲苯磺酸作用下脫除保護(hù)基以繼續(xù)與所述單體反應(yīng),得到寡聚物中間體
(2)使所述寡聚物中間體與式(iii)的支化甘醇部分反應(yīng),得到所述兩親性嵌段寡聚物
其中n為1、2、3或4,并且
R選自:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中
使式(i)的單體與式(ii)的光觸發(fā)基元在二丁基二月桂酸錫(DBTL)的存在下在70~110℃反應(yīng)2~8小時并且
使寡聚物中間體與式(iii)的支化甘醇部分在二丁基二月桂酸錫(DBTL)的存在下在70~110℃反應(yīng)2~8小時。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中式(i)的單體與式(ii)的光觸發(fā)基元的摩爾比為1:1~4:1。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中所述寡聚物中間體與式(iii)的支化甘醇部分的摩爾比為1:1~1:4。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中式(i)的單體與式(ii)的光觸發(fā)基元的反應(yīng)在氮?dú)鈿夥障逻M(jìn)行。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中寡聚物中間體與式(iii)的支化甘醇部分的反應(yīng)在氮?dú)鈿夥障逻M(jìn)行。
8.一種通過根據(jù)權(quán)利要求1所述的兩親性嵌段寡聚物自組裝制備的組裝體。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的組裝體,其中所述寡聚物為式(I)的寡聚物
所述組裝體是片層狀組裝體。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的組裝體,其中所述片層狀組裝體的高度為1~20nm。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的組裝體,其中所述片層狀組裝體的高度為5nm。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的組裝體,其中所述寡聚物為式(II)的寡聚物
所述組裝體是納米帶狀組裝體。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的組裝體,其中所述寡聚物為式(III)的寡聚物
所述組裝體是長線狀組裝體。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的組裝體,其中所述長線狀組裝體的長度為50nm~2000nm。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的組裝體,其中所述長線狀組裝體具有螺旋結(jié)構(gòu)。
16.根據(jù)權(quán)利要求8所述的組裝體,其中所述寡聚物為式(IV)的寡聚物
所述組裝體是具有手性消光效應(yīng)的組裝體。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的組裝體,其中所述組裝體具有手性消光效應(yīng)、光學(xué)活性和圓二色譜信號。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的兩親性嵌段寡聚物或者根據(jù)權(quán)利要求8-17中任一項所述的組裝體,其中在紫外光輻照下,所述寡聚物的分子鏈發(fā)生降解,或者所述組裝體發(fā)生解體。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的兩親性嵌段寡聚物或組裝體,其中紫外光的波長為200nm~400nm。
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