[發明專利]一種高純NaAlB14 在審
| 申請號: | 202010721084.3 | 申請日: | 2020-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN111893568A | 公開(公告)日: | 2020-11-06 |
| 發明(設計)人: | 于棟利;袁智康 | 申請(專利權)人: | 燕山大學 |
| 主分類號: | C30B29/10 | 分類號: | C30B29/10;C30B1/12;C30B1/10 |
| 代理公司: | 石家莊眾志華清知識產權事務所(特殊普通合伙) 13123 | 代理人: | 張建 |
| 地址: | 066004 河北*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高純 naalb base sub 14 | ||
本發明公開一種高純NaAlB14晶體的制備方法,屬于非金屬材料領域,其特征在于:高溫高壓條件下,以堿金屬Na塊,金屬Al粉和B粉為原料用元素法直接制備NaAlB14晶體。本申請制備NaAlB14晶體的方法與現有技術相比,工藝簡單,制備的NaAlB14晶體純度較高,NaAlB14晶體的熔點高,硬度高,可用作高溫半導體材料,高溫熱電材料以及磨料。
技術領域
本發明涉及一種高純NaAlB14晶體的制備方法,屬于非金屬材料領域。
背景技術
基于B12二十面體的富硼化合物,憑借其優異的物理性質、化學性質吸引了人們的廣泛關注,這類化合物可被用作高溫半導體、高溫熱電材料、探測器以及磨料。
2005年,Okada等人在氬氣氣氛下以Na2B4O7粉、晶態B粉和Al金屬片作為原料,首次合成NaAlB14晶體。XRD顯示所制備的NaAlB14產物中含有Al2O3雜質。硬度測試表明NaAlB14晶體{100}和{010}晶面的維氏硬度分別為23.3GPa和 28.4GPa,當以堿金屬Na直接作為Na源與晶態B粉和Al金屬片反應時,在相同條件下卻沒有制備出NaAlB14化合物。
發明內容
本發明的目的是提供一種工藝簡單、成本低廉的制備高純NaAlB14化合物晶體的方法。為實現上述目的,本發明采用的技術方案為:
一種高純NaAlB14晶體的制備方法,其特征在于:高溫高壓條件下,以堿金屬Na塊,金屬Al粉和B粉為原料用元素法制備NaAlB14晶體。
本發明技術方案的進一步改進在于:制備方法包括以下步驟:
(1)在惰性氣體的手套箱中,將堿金屬Na塊,金屬Al粉以及B粉,按一定比例預壓成塊裝入BN坩堝;
(2)經過800℃-1500℃左右高溫和1-6Gpa高壓處理后,用稀鹽酸除去剩余的金屬Na和Al,即可得到高純NaAlB14晶體。
本發明技術方案的進一步改進在于:所述的NaAlB14晶體化學成分為:Na: Al:B=1:1:14,晶體結構為正交結構,空間群為Imma(74),晶格參數為α=β=γ=90°,外觀為棱柱狀的黑色晶體。
本發明技術方案的進一步改進在于:所述的B粉包括無定型B粉和晶態B 粉。
本發明技術方案的進一步改進在于:
步驟(1)中堿金屬Na塊和B粉的摩爾比以及金屬Al粉和B粉的摩爾比都不小于14:1。
由于采用了上述技術方案,本發明取得的技術進步為:
本發明與現有技術相比具有以下優點:由堿金屬Na塊,金屬Al粉以及晶態 B粉,元素法直接反應制備高純NaAlB14化合物晶體,工藝簡單;本發明制備方法所制備的NaAlB14晶體純度較高,不含雜質。這種非金屬材料熔點高,硬度高,可用作高溫半導體材料,高溫熱電材料以及磨料。
附圖說明
圖1為本發明實施例制備的NaAlB14晶體的X射線衍射圖以及NaAlB14理論結構模型的X射線衍射圖;
圖2為本發明實施例制備的NaAlB14拉曼散射譜圖以及NaAlB14理論結構模型的拉曼散射譜圖;
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