[發(fā)明專利]一種氣化焚燒及煙氣凈化系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010720738.0
• 申請日: 2020-07-24
• 公開（公告）號: CN111821806A
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發(fā)明（設計）人: 蘇德仁;袁浩然
• 申請（專利權）人: 廣州燃能科技有限公司;清遠市科博環(huán)保技術有限公司
• 主分類號: B01D53/02
• 分類號: B01D53/02;F23G5/16;F23G5/44;F23J15/02;F23J15/04
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 胡輝

本發(fā)明公開了一種氣化焚燒及煙氣凈化系統(tǒng)，包括氣化焚燒系統(tǒng)和煙氣凈化系統(tǒng)，煙氣凈化系統(tǒng)包括煙氣凈化通道和除二惡英裝置，氣化焚燒系統(tǒng)與煙氣凈化通道連接，除二惡英裝置具有儲料倉和輸送結構，儲料倉中設有碳質吸附劑，輸送結構用于將碳質吸附劑按量送入煙氣凈化通道。對垃圾進行處理時，先將垃圾送入氣化焚燒系統(tǒng)中進行氣化焚燒，并生成煙氣。煙氣進入煙氣凈化通道中，除二惡英裝置的輸送結構將碳質吸附劑按量送入煙氣凈化通道，碳質吸附劑與流動的煙氣進行混合，并在極短的時間內與二惡英及部分煙氣異味發(fā)生反應，快速化除二惡英和硫化氫等煙氣異味，避免了堵塞煙氣凈化系統(tǒng)，保證煙氣凈化工作的進行，提高工作效率。

技術領域

本發(fā)明用于醫(yī)療垃圾領域，特別是涉及一種氣化焚燒及煙氣凈化系統(tǒng)。

背景技術

由于帶病菌的理療廢棄物在運輸過程中容易擴散病菌，造成大型社會醫(yī)療事故。為避免傳染病菌的擴散，醫(yī)療廢棄物需要及時打包并做銷毀處理?，F(xiàn)有技術中，可燃廢棄物焚燒完成后先通過除酸裝置去除煙氣中酸性氣體，再通過吸附裝置將煙氣中的二惡英及煙氣中的異味(如硫化氫、氟化氫)等凈化去除，最后通過除塵器對將顆粒物截留去除，經(jīng)過凈化處理后的煙氣才能夠達標排放。

其存在的缺點有：吸附裝置中填充有顆?；钚蕴浚瑹煔饨?jīng)吸附裝置去除二惡英污染物及其他異味污染物，再經(jīng)除塵器排出時，煙氣的流動會帶動未發(fā)生反應或未完全反應的活性炭進入除塵器中，對除塵器中的過濾布袋造成堵塞，不僅浪費吸附劑，也極大地影響了工作效率。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于至少解決現(xiàn)有技術中存在的技術問題之一，提供一種氣化焚燒及煙氣凈化系統(tǒng)，其通過輸出結構將碳質吸附劑按量送入煙氣凈化通道中，有效清除二惡英及煙氣異味的同時，能夠避免堵塞煙氣凈化系統(tǒng)，保證煙氣凈化工作的進行，提高工作效率。

本發(fā)明解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種氣化焚燒及煙氣凈化系統(tǒng)，包括

氣化焚燒系統(tǒng)；

煙氣凈化系統(tǒng)，所述煙氣凈化系統(tǒng)包括煙氣凈化通道和除二惡英裝置，所述氣化焚燒系統(tǒng)與所述煙氣凈化通道連接，所述除二惡英裝置具有儲料倉和輸送結構，所述儲料倉中設有碳質吸附劑，所述輸送結構用于將所述碳質吸附劑按量送入所述煙氣凈化通道。

結合上述實現(xiàn)方式，在本發(fā)明的某些實現(xiàn)方式中，所述氣化焚燒系統(tǒng)包括氣化爐發(fā)生器和二燃室，所述氣化爐發(fā)生器具有進料口，所述氣化爐發(fā)生器與所述二燃室連通，所述二燃室與所述煙氣凈化通道連通，所述氣化爐發(fā)生器設有氣化風機和點火燃燒器，所述二燃室設有氣化燃燒器。

結合上述實現(xiàn)方式，在本發(fā)明的某些實現(xiàn)方式中，所述煙氣凈化系統(tǒng)還包括冷卻器，所述冷卻器與所述煙氣凈化通道連通，所述冷卻器具有冷卻空腔，所述冷卻器設有用于向所述冷卻空腔進風的冷卻風機，所述冷卻器的表面設有多個與外部連通的吸風口。

結合上述實現(xiàn)方式，在本發(fā)明的某些實現(xiàn)方式中，所述煙氣凈化系統(tǒng)還包括除酸裝置，所述除酸裝置與所述煙氣凈化通道連通，所述除酸裝置具有除酸空腔，所述除酸裝置的底部設有入口，所述除酸裝置的頂部設有出口，所述除酸裝置設有噴淋裝置，所述噴淋裝置中設有除酸劑，所述噴淋裝置用于將所述除酸劑噴入所述除酸空腔。

結合上述實現(xiàn)方式，在本發(fā)明的某些實現(xiàn)方式中，所述煙氣凈化系統(tǒng)還包括除塵裝置，所述除塵裝置與所述煙氣凈化通道相連通，所述除塵裝置包括布袋除塵器。

結合上述實現(xiàn)方式，在本發(fā)明的某些實現(xiàn)方式中，所述煙氣凈化系統(tǒng)還包括活性炭吸附裝置，所述活性炭吸附裝置布置于所述煙氣凈化通道中，并位于所述除塵裝置的后方。