[發明專利]衍射器件、分光裝置和衍射器件的制造方法在審
| 申請號： | 202010718667.0 | 申請日： | 2020-07-23 |
| 公開（公告）號： | CN112285815A | 公開（公告）日： | 2021-01-29 |
| 發明（設計）人： | 助川隆 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18;G02B27/10 |
| 代理公司： | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人： | 楊小明 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 衍射 器件 分光 裝置 制造 方法 | ||
1.一種衍射器件，其特征在于，衍射器件包括ZnS構件和耦合到ZnS構件的ZnSe構件，其中，衍射光柵被設置在ZnSe構件上。
2.根據權利要求1所述的器件，其中，該器件被配置為浸沒式衍射器件。
3.根據權利要求1所述的器件，其中，該衍射光柵為閃耀衍射光柵。
4.根據權利要求1所述的器件，其中，ZnSe構件的最大厚度在不小于150μm且不大于1000μm的范圍內。
5.根據權利要求1所述的器件，其中，ZnS構件包括第一面和第二面，ZnSe構件耦合到所述第一面，第二ZnSe構件耦合到所述第二面，并且第二衍射光柵被設置在第二ZnSe構件上。
6.根據權利要求5所述的器件，其中，該衍射光柵的周期方向和第二衍射光柵的周期方向彼此正交。
7.根據權利要求5所述的器件，其中，該衍射光柵的光柵間距大于第二衍射光柵的光柵間距。
8.根據權利要求1所述的器件，其中，該衍射光柵被配置為能夠使紅外區域中的光光譜分散。
9.一種包括光學系統的分光裝置，其特征在于，該光學系統包括在權利要求1～8中的任一項中限定的衍射器件。
10.一種制造衍射器件的制造方法，其特征在于，包括：
形成其中ZnS構件和ZnSe構件彼此耦合的結構體；以及
加工以在所述結構體中的ZnSe構件上形成衍射光柵。
11.根據權利要求10所述的方法，其中，通過使用金剛石工具執行所述加工。
12.根據權利要求10或11所述的方法，其中，在所述形成中，通過利用光學接觸結合將ZnSe構件耦合到ZnS構件來形成所述結構體。
13.根據權利要求10或11所述的方法，其中，在所述形成中，通過使用沉積方法在ZnS構件上沉積ZnSe材料來形成ZnSe構件，由此形成所述結構體。
14.根據權利要求13所述的方法，其中，沉積方法包括CVD方法。
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