[發明專利]一種判定等離子工藝腔體清洗周期的方法在審
| 申請號： | 202010717059.8 | 申請日： | 2020-07-23 |
| 公開（公告）號： | CN111812053A | 公開（公告）日： | 2020-10-23 |
| 發明（設計）人： | 楊平;張志強;夏歡 | 申請（專利權）人： | 上海稷以科技有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/33 | 分類號： | G01N21/33 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 200240 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 判定 等離子 工藝 清洗 周期 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種判定等離子工藝腔體清洗周期的方法，其特征在于：所述方法是在工藝腔體上加裝一個光學透鏡，等離子體發射的光通過該光學透鏡投射到光譜上，通過光譜儀來實時對等離子體發射光譜進行監測。
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