[發(fā)明專利]光學系統(tǒng)、取像模組及電子設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010716856.4
• 申請日: 2020-07-23
• 公開（公告）號: CN111736306A
• 公開（公告）日: 2020-10-02
• 發(fā)明（設計）人: 王妮妮;劉彬彬;李明;鄒海榮
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲精密光學制品有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18;G02B13/06
• 代理公司: 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 黃鴻華

1.一種光學系統(tǒng)，其特征在于，由物側至像側依次包括：

光闌；

具有正屈折力的第一透鏡，所述第一透鏡的物側面于近軸處為凸面；

具有屈折力的第二透鏡；

具有屈折力的第三透鏡；

具有屈折力的第四透鏡；

具有屈折力的第五透鏡；

具有正屈折力的第六透鏡，所述第六透鏡的像側面于近軸處為凸面；

具有屈折力的第七透鏡；

具有屈折力的第八透鏡，所述第八透鏡的像側面于近軸處為凹面；

且所述光學系統(tǒng)滿足以下條件式：

(MIN6*MAX8/MAX6*MIN8)≤2；

其中，在所述第六透鏡的最大有效孔徑內，MIN6為所述第六透鏡于平行于光軸方向上的最小厚度，MAX6為所述第六透鏡于平行于光軸方向上的最大厚度，在所述第八透鏡的最大有效孔徑內，MIN8為所述第八透鏡于平行于光軸方向上的最小厚度，MAX8為所述第八透鏡于平行于光軸方向上的最大厚度。

2.根據(jù)權利要求1所述的光學系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

(SAG61+SAG62)/(SAG71+SAG72)≤2；

其中，SAG61為所述第六透鏡的物側面與光軸的交點至所述第六透鏡的物側面的最大有效半徑位置于平行于光軸方向上的距離，SAG62為所述第六透鏡的像側面與光軸的交點至所述第六透鏡的像側面的最大有效半徑位置于平行于光軸方向上的距離，SAG71為所述第七透鏡的物側面與光軸的交點至所述第七透鏡的物側面的最大有效半徑位置于平行于光軸方向上的距離，SAG72為所述第七透鏡的像側面與光軸的交點至所述第七透鏡的像側面的最大有效半徑位置于平行于光軸方向上的距離。

3.根據(jù)權利要求1所述的光學系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

0≤Y71-Y62≤1mm；

其中，Y62為所述第六透鏡的像側面的最大有效孔徑，Y71為所述第七透鏡的物側面的最大有效孔徑。

4.根據(jù)權利要求1所述的光學系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

3mm/度≤100*ΣCT/FOV≤5mm/度；

其中，ΣCT為所述第一透鏡、所述第二透鏡、所述第三透鏡、所述第四透鏡、所述第五透鏡、所述第六透鏡、所述第七透鏡以及所述第八透鏡于光軸上的厚度之和，F(xiàn)OV為所述光學系統(tǒng)的最大視場角。

5.根據(jù)權利要求1所述的光學系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

0≤(CT7+CT8)/CT6≤2；

其中，CT6為所述第六透鏡于光軸上的厚度，CT7為所述第七透鏡于光軸上的厚度，CT8為所述第八透鏡于光軸上的厚度。

6.根據(jù)權利要求1所述的光學系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

(ET2+ET3)/(CT2+CT3)≤1；

其中，ET2為所述第二透鏡的物側面的最大有效孔徑處至所述第二透鏡的像側面的最大有效孔徑處于平行于光軸方向上的距離，ET3為所述第三透鏡的物側面的最大有效孔徑處至所述第三透鏡的像側面的最大有效孔徑處于平行于光軸方向上的距離，CT2為所述第二透鏡于光軸處的厚度，CT3為所述第三透鏡于光軸處的厚度。

7.根據(jù)權利要求1所述的光學系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

1≤TTL/f≤2；

其中，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述光學系統(tǒng)的成像面于光軸上的距離，f為所述光學系統(tǒng)的總有效焦距。

8.根據(jù)權利要求1所述的光學系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

1≤TTL/ImgH≤2；

其中，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述光學系統(tǒng)的成像面于光軸上的距離，ImgH為所述光學系統(tǒng)于成像面上有效像素區(qū)域的對角線長度的一半。

9.根據(jù)權利要求1所述的光學系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

-10≤f67/f≤3；

其中，f67為所述第六透鏡及所述第七透鏡的組合焦距，f為所述光學系統(tǒng)的總有效焦距。