[發明專利]成膜裝置及成膜方法

在審

• 申請號: 202010716476.0
• 申請日: 2020-07-23
• 公開（公告）號: CN112553581A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 大潭篤史
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 成都超凡明遠知識產權代理有限公司 51258
• 代理人: 魏彥

1.一種成膜方法，一邊以橫穿靶的方式相對于所述靶來相對地運送成膜對象物，一邊執行用于對所述靶進行濺射的連續濺射，從而在所述成膜對象物上形成膜，所述成膜方法的特征在于，具有：

測量工序，預先計測所述成膜對象物的運送速度的倒數與所述成膜對象物上形成的膜的膜厚之間的對應關系，

保存工序，保存所述對應關系，

速度確定工序，根據所述膜厚的目標值與所述對應關系，來確定所述運送速度，以及

成膜工序，以在所述速度確定工序中確定的所述運送速度來運送所述成膜對象物，通過連續濺射，在所述成膜對象物上形成所述膜。

2.根據權利要求1所述的成膜方法，其特征在于，

所述對應關系包括具有截距的線性函數表達式。

3.根據權利要求1所述的成膜方法，其特征在于，

所述對應關系包括查找表，

在所述速度確定工序中，根據對所述查找表的線性插值處理，來確定所述運送速度。

4.一種成膜裝置，通過連續濺射，在成膜對象物上進行成膜處理，所述成膜裝置的特征在于，具有：

腔室，

陰極，設置在所述腔室內，并且包括靶，

運送部，在所述腔室內以橫穿所述靶的方式，相對于所述靶而相對地運送所述成膜對象物，

氣體供給部，向所述腔室內供給非活性氣體，

電壓施加部，向所述陰極施加電壓，以及

控制部，控制用于進行所述成膜處理的數據的保存；

所述控制部，保存所述成膜對象物的運送速度的倒數與所述成膜對象物上形成的膜的膜厚之間的對應關系，并根據所述膜厚的目標值和所述對應關系，來確定所述成膜對象物的運送速度。