[發明專利]用于化學源容器的液位傳感器

在審

• 申請號: 202010716291.X
• 申請日: 2020-07-23
• 公開（公告）號: CN112323048A
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: A.M.耶德納克三世
• 申請（專利權）人: ASMIP私人控股有限公司
• 主分類號: C23C16/52
• 分類號: C23C16/52;B05D1/00;C23C16/448;C23C16/455
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 焦玉恒

1.一種用于提供化學前體的化學容器，所述化學前體用于將半導體膜沉積在襯底上，所述化學容器包括：

容器殼體；以及

從所述容器殼體的頂部延伸的液位傳感器管，所述液位傳感器管包括：

液位傳感器管殼；

內置在所述液位傳感器管殼中的槽；和

設置在所述液位傳感器管殼內的多個傳感器，所述多個傳感器被配置成指示所述容器殼體內的液體化學前體的液位。

2.根據權利要求1所述的化學容器，其中所述多個傳感器設置在所述液位傳感器管上的不同位置處。

3.根據權利要求1所述的化學容器，其中所述槽基本上延伸所述液位傳感器管的整個長度。

4.根據權利要求1所述的化學容器，其中所述槽具有圓形橫截面形狀。

5.根據權利要求1所述的化學容器，其中所述槽具有矩形橫截面形狀。

6.根據權利要求1所述的化學容器，其中所述槽具有三角形橫截面形狀。

7.根據權利要求1所述的化學容器，其中所述多個傳感器包括以下各項中的至少一者：超聲波傳感器；壓電傳感器；電導傳感器；電容傳感器；或光電傳感器。

8.根據權利要求1所述的化學容器，其中所述液位傳感器管殼包括以下各項中的至少一者：金屬；陶瓷；或塑料。

9.一種用于將半導體膜沉積在襯底上的反應系統，所述反應系統包括：

根據權利要求1所述的化學容器；

反應室，所述反應室被構造成保持襯底并且被構造成從所述化學容器接收氣態前體；以及

液體再填充源，所述液體再填充源被構造成向所述化學容器提供額外的液體前體。

10.根據權利要求9所述的反應系統，還包括載氣源，所述載氣源被構造成向所述化學容器提供載氣。