[發明專利]一種金屬離子配位雙功能單體分子印跡聚合物及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 202010714710.6
• 申請日: 2020-07-23
• 公開（公告）號: CN111777713A
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 呂海霞;胡凱;范丹陽
• 申請（專利權）人: 福州大學
• 主分類號: C08F226/06
• 分類號: C08F226/06;C08F220/06;C08F222/14;C08F8/42;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/34
• 代理公司: 福州元創專利商標代理有限公司 35100
• 代理人: 修斯文;蔡學俊

1.一種金屬離子配位雙功能單體分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于：在聚合體系中，引入雙功能單體提供特異性吸附位點，隨后加入金屬離子為樞紐，形成雙功能單體-金屬離子-模板的配合物，經過熱聚、洗脫、干燥得到金屬配位雙功能單體分子印跡聚合物。

2.根據權利要求1所述的金屬離子配位雙功能單體分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于：具體是在分子印跡聚合物的聚合系統中，以4-乙烯基吡啶和甲基丙烯酸為雙功能單體，加入三元致孔溶劑，以金屬離子Co²⁺為樞紐，加入模板劑、交聯劑和引發劑下聚合得到剛性聚合物，經過粉粹、研磨、篩分和洗脫得到分子印跡聚合物。

3.根據權利要求2所述的金屬離子配位雙功能單體分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于：所述4-乙烯基吡啶4-VP其含量為3.6-7.2 mmol；功能單體甲基丙酰胺MAA與4-VP為雙功能單體的摩爾比例為1:0.5-1:1.5。

4.根據權利要求2所述的金屬離子配位雙功能單體分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于：所述三元致孔溶劑為二甲基亞砜DMSO、N，N-二甲基甲酰胺DMF和1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸鹽[BMIM]BF₄，其體積比例范圍為5:1:9-5:1:10.5。

5.根據權利要求2所述的金屬離子配位雙功能單體分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于：所述金屬離子Co²⁺，含量為0.1-0.7 mmol。

6.根據權利要求2所述的金屬離子配位雙功能單體分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于：所述交聯劑為乙二醇二甲基丙烯酸酯EDMA，其含量為7.2-10.8 mmol。

7.根據權利要求2所述的金屬離子配位雙功能單體分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于：所述模板劑為水楊酸，其含量為1.8-3.6 mmol。

8.根據權利要求2所述的金屬離子配位雙功能單體分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于：所述引發劑為偶氮二異丁腈AIBN，其含量為20-30 mg。

9.一種如權利要求1-8任一項所述的方法制得的金屬配位雙功能單體分子印跡聚合物。

10.一種如權利要求1-8任一項所述的方法制得的金屬配位雙功能單體分子印跡聚合物在固相萃取劑上的應用，其特征在于：對水溶液中的有機污染物進行選擇性固相萃取。