[發明專利]閘機設備及其控制方法有效
| 申請號: | 202010714603.3 | 申請日: | 2020-07-23 |
| 公開(公告)號: | CN111856603B | 公開(公告)日: | 2023-06-30 |
| 發明(設計)人: | 魏清陽;劉亞強;江年銘;許天鵬;黃帥 | 申請(專利權)人: | 北京永新醫療設備有限公司 |
| 主分類號: | G01V5/00 | 分類號: | G01V5/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 韓海花 |
| 地址: | 101102 北京市通州區中關村科*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 設備 及其 控制 方法 | ||
1.一種閘機設備,其特征在于,所述閘機設備包括多個閘機本體和控制器,多個所述閘機本體中的相鄰兩個所述閘機本體之間形成閘機通道,所述閘機本體包括第一放射源探測器和第二放射源探測器,其中,所述第二放射源探測器設置在第一放射源探測器的后面,且所述第二放射源探測器和所述第一放射源探測器之間存在距離間隔,所述第一放射源探測器包括第一NaI閃爍晶體探測器和第一中子慢化劑材料層,所述第一中子慢化劑材料層圍成第一容納區,所述第二放射源探測器包括第二NaI閃爍晶體探測器和第二中子慢化劑材料層,所述第二中子慢化劑材料層圍成第二容納區,所述第一容納區和所述第二容納區的敞開口均朝向所述閘機通道的進口方向,
所述第一NaI閃爍晶體探測器設于所述第一容納區內;
所述第二NaI閃爍晶體探測器設于所述第二容納區內;
所述控制器,分別與每個所述閘機本體中的第一NaI閃爍晶體探測器和第二NaI閃爍晶體探測器連接;
其中,所述控制器用于通過每個所述閘機本體中的第一NaI閃爍晶體探測器和第二NaI閃爍晶體探測器進行放射源檢測,并根據放射源檢測結果,確定放射源所在的閘機通道,所述控制器,具體用于:針對每個所述閘機本體,獲取所述閘機本體中的第一NaI閃爍晶體探測器在預設時間內,在預設的第一能量窗內累積的第一凈計數,以及在第二能量窗內累計的第二凈計數,并獲取所述閘機本體中的第二NaI閃爍晶體探測器在預設時間內,在所述第一能量窗內累積的第三凈計數以及在所述第二能量窗內累計的第四凈計數,根據所述第一凈計數、第二凈計數、第三凈計數和第四凈計數,確定是否進行中子源報警,其中,所述第一能量窗與所述第二能量窗不具有重合的能量,并且,所述第一能量窗的能量均大于所述第二能量窗的能量;
如果確定進行中子源報警,則獲取所述第一凈計數、第二凈計數、第三凈計數和第四凈計數之和所得到的第一總累積凈計數,根據所述第一總累積凈計數,確定對應閘機通道的總累積凈計數,并將每個所述閘機通道的總累積凈計數進行比較,以及根據比較結果,選擇總累積凈計數最大的閘機通道作為所述放射源所在的閘機通道。
2.如權利要求1所述的閘機設備,其特征在于,所述控制器,具體用于:
獲取所述第一凈計數加上所述第三凈計數的第二總累積凈計數;
判斷所述第二總累積凈計數是否超過預設的中子源報警閾值;
如果所述第二總累積凈計數超過預設的中子源報警閾值,則確定所述第一凈計數和所述第三凈計數中較大值與較小值的第一比值,并確定所述第二凈計數和所述第四凈計數中較大值與較小值的第二比值,以及獲取所述第一比值和所述第二比值的差值的絕對值,并判斷所述差值的絕對值小于預設的差值閾值,則確定進行中子源報警。
3.如權利要求1所述的閘機設備,其特征在于,所述控制器,還用于:
在確定未進行中子源報警時,獲取所述第二凈計數加上所述第四凈計數的第三總累積凈計數;
判斷所述第三總累積凈計數是否超過預設的伽馬源報警閾值;
如果所述第三總累積凈計數超過預設的伽馬源報警閾值,則確定進行伽馬源報警;
如果確定進行伽馬源報警,則獲取所述第一凈計數、第二凈計數、第三凈計數和第四凈計數的第一總累積凈計數,根據所述第一總累積凈計數,確定對應閘機通道的總累積凈計數,并將每個所述閘機通道的總累積凈計數進行比較,以及選擇總累積凈計數最大的閘機通道作為所述放射源所在的閘機通道。
4.如權利要求1所述的閘機設備,其特征在于,所述第一中子慢化劑材料層和第二中子慢化劑材料層的材料層相同,均依次包括第一PE材料層、PVC材料層和第二PE材料層。
5.如權利要求4所述的閘機設備,其特征在于,所述第一PE材料層、PVC材料層和第二PE材料層的厚度相同,且所述厚度均為大于0.5厘米。
6.如權利要求1所述的閘機設備,其特征在于,所述第一能量窗是根據中子源所產生的次級伽馬射線能量范圍預先確定的,所述第二能量窗是根據伽馬源所產生的能量范圍預先確定的。
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