[發(fā)明專利]一種總α和總β放射性測量樣品制備裝置及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010714123.7
• 申請日: 2020-07-22
• 公開（公告）號: CN111624077A
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 歐頻;俞添虹;黃麗芳;李昱丞;鄭雪婷
• 申請（專利權(quán)）人: 歐頻
• 主分類號: G01N1/28
• 分類號: G01N1/28;G01T1/167
• 代理公司: 北京海虹嘉誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11129
• 代理人: 何志欣

1.一種總α和總β放射性測量樣品制備裝置，包括鋪樣器(200)，所述鋪樣器(200)，用于將待測灰樣制備成厚度相對均勻的待測樣品源，

其特征在于，

所述鋪樣器(200)包括樣品盤(200a)和刮片(200b)，其中：

所述刮片(200b)與所述樣品盤(200a)相互平行而使得兩者之間的高度限定出所述待測樣品源的制成厚度，從而在所述刮片(200b)和所述樣品盤(200a)彼此相對轉(zhuǎn)動的情況下，所述刮片(200b)能夠?qū)⑺龃郎y灰樣制成厚度相對均勻的待測樣品源。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量樣品制備裝置，其特征在于，所述刮片(200b)包括用于將所述待測灰樣制成待測樣品源的剛性刮絲(200b-1)，

所述剛性刮絲(200b-1)按照所述待測灰樣不會外爬至樣品盤(200a)外沿的方式與調(diào)高器(200c)固定連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測量樣品制備裝置，其特征在于，所述調(diào)高器(200c)包括內(nèi)螺旋桿(200c-1)和與所述內(nèi)螺旋桿(200c-1)螺旋連接的外螺旋桿(200c-2)，所述外螺旋桿(200c-2)與外固定筒(200c-3)螺旋連接，

其中，所述剛性刮絲(200b-1)與所述內(nèi)螺旋桿(200c-1)固定連接，

其中，所述內(nèi)螺旋桿(200c-1)的螺距小于所述外螺旋桿(200c-2)的螺距，而使得所述刮片(200b)與所述樣品盤(200a)之間的高度至少能夠以先粗調(diào)而后細(xì)調(diào)的方式確定。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的測量樣品制備裝置，其特征在于，所述剛性刮絲(200b-1)通過至少兩條斜邊連接至所述內(nèi)螺旋桿(200c-1)，而使得所述刮片(200b)能夠在所述剛性刮絲(200b-1)與所述待測灰樣接觸的過程中相對平穩(wěn)地與所述調(diào)高器(200c)固定連接。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的測量樣品制備裝置，其特征在于，所述樣品盤(200a)處于水平狀態(tài)，以使得制成的待測樣品源的厚度相對均勻并且所述待測灰樣中的液相部分不會在所述刮片(200b)和所述樣品盤(200a)彼此相對轉(zhuǎn)動中流動至所述樣品盤(200a)的外緣。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的測量樣品制備裝置，其特征在于，所述刮片(200b)和所述樣品盤(200a)的相對轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動速度按照先慢速再逐漸增速而后逐漸降速至勻速的方式配置。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的測量樣品制備裝置，其特征在于，所述剛性刮絲(200b-1)為表面光滑的細(xì)絲，且其直徑為0.2mm～0.5mm，其長度與所述樣品盤(200a)的尺寸彼此匹配。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的測量樣品制備裝置，其特征在于，所述樣品盤(200a)與測量探頭的尺寸彼此匹配，而使得在所述待測樣品源制備完成之后，鋪設(shè)于所述樣品盤(200a)上的待測樣品源能夠直接用于測量探頭測量。

9.一種總α和總β放射性測量樣品制備方法，包括：

將待測樣品固體研磨成目數(shù)符合要求的待測灰樣；

將待測灰樣制備成厚度相對均勻的待測樣品源，

其特征在于，

將刮片(200b)與樣品盤(200a)相互平行而使得兩者之間的高度按照所述待測樣品源的制成厚度的要求而設(shè)定，從而在所述刮片(200b)和所述樣品盤(200a)彼此相對轉(zhuǎn)動的情況下，所述刮片(200b)能夠?qū)⑺龃郎y灰樣制成厚度相對均勻的待測樣品源。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的測量樣品制備方法，其特征在于，所述刮片(200b)和所述樣品盤(200a)相對轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動速度按照先慢速再增速而后降速至勻速的方式配置。