[發(fā)明專利]一種核殼結(jié)構(gòu)納米材料及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010711907.4 | 申請日: | 2020-07-22 |
| 公開(公告)號: | CN111687425B | 公開(公告)日: | 2023-04-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張昱;王澤鵬;崔成強(qiáng);張凱;陳新 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | B22F9/14 | 分類號: | B22F9/14;B22F1/17;B22F1/054;C01B32/15;C01B33/02;C01B33/18;C01G9/02;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 黃忠 |
| 地址: | 510060 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 結(jié)構(gòu) 納米 材料 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及納米材料技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種核殼結(jié)構(gòu)納米材料及其制備方法。本發(fā)明公開的制備方法向火花燒蝕裝置內(nèi)通入載氣氣源后,載氣在高壓脈沖下火花放電,高溫火花將兩個電極表面的材料燒蝕蒸發(fā),形成兩種原子團(tuán)簇,隨即冷凝形成納米顆粒,經(jīng)燒結(jié)、冷卻,熔點高的納米顆粒先凝結(jié)為核心,熔點低的納米顆粒后凝結(jié)為殼層,形成核殼結(jié)構(gòu)以降低能量保持穩(wěn)定狀態(tài)。該制備方法無需制備前驅(qū)體,工藝簡單快捷且環(huán)保,降低生產(chǎn)成本,可連續(xù)生產(chǎn),有利于實現(xiàn)工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn);該制備方法制得的核殼顆粒純度高、單分散性好、尺寸可控、且尺寸分布窄;該制備方法通過更換電極的材料可以制備得到不同類型的核殼材料,可應(yīng)用于電子、生物醫(yī)藥、化工等領(lǐng)域。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及納米材料技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種核殼結(jié)構(gòu)納米材料及其制備方法。
背景技術(shù)
核殼材料是以一個尺寸在微米至納米級的球形顆粒為核,在其表面包覆數(shù)層均勻納米薄膜而形成的一種復(fù)合多相結(jié)構(gòu)。核殼材料集無機(jī)、有機(jī)、納米粒子諸多特異性質(zhì)于一體,并可通過控制核-殼的厚度等實現(xiàn)復(fù)合性能的調(diào)控,因而受到廣泛關(guān)注與研究。
根據(jù)核殼成分的不同,主要可分為有機(jī)核-無機(jī)殼型、無機(jī)核-有機(jī)殼型和無機(jī)核-無機(jī)殼型。核殼材料一方面可以通過性質(zhì)相對穩(wěn)定的外殼來保護(hù)內(nèi)核粒子不發(fā)生物理、化學(xué)變化,另一方面還可通過表面包覆將外殼粒子特有的電磁性能、光學(xué)性能、催化性能賦予內(nèi)核粒子,改善核粒子的表面荷電、表面活性與穩(wěn)定性、分散性等。
目前制備核殼結(jié)構(gòu)材料的方法主要有種子聚合法、大分子單體法、自組裝法、逐步異相凝聚法等。以上方法制備的核殼結(jié)構(gòu)顆粒主要集中在微米級,由于納米材料活性太高,以上方法較難控制,難以制備納米級核殼結(jié)構(gòu)材料。同時以上方法還存在以下缺點:(1)制備過程易引入雜質(zhì),制得的核殼結(jié)構(gòu)材料純度不高;(2)制備的核殼結(jié)構(gòu)顆粒之間容易團(tuán)聚,分散性不好;(3)使用有毒有害化學(xué)試劑,對環(huán)境不友好。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種核殼結(jié)構(gòu)納米材料及其制備方法,解決了目前核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合材料制備方法制得的核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合材料純度低、分散性不好、制備過程較為繁瑣、且使用有毒化學(xué)試劑的問題。
其具體技術(shù)方案如下:
本發(fā)明提供了一種核殼結(jié)構(gòu)納米材料的制備方法,采用依次連通的載氣氣源、火花燒蝕裝置、燒結(jié)裝置和收集裝置組成的制備系統(tǒng)制備,所述火花燒蝕裝置內(nèi)上下對稱設(shè)置有第一電極和第二電極,所述火花燒蝕裝置左右壁分別開設(shè)有用于連通所述載氣氣源和燒結(jié)裝置的通孔,兩個所述通孔的軸線位一同水平線上,且位于所述第一電極與所述第二電極之間;
所述制備方法包括以下步驟:
步驟1:向所述火花燒蝕裝置內(nèi)通入載氣氣源;
步驟2:向所述第一電極與所述第二電極施加脈沖電壓進(jìn)行火花燒蝕反應(yīng),形成第一電極原子團(tuán)簇和第二電極原子團(tuán)簇,冷卻形成納米顆粒;
步驟3:所述納米顆粒在所述載氣氣源的帶動下進(jìn)入所述燒結(jié)裝置進(jìn)行燒結(jié),冷卻,得到核殼結(jié)構(gòu)的納米材料;
所述第一電極的熔點高于所述第二電極的熔點。
優(yōu)選地,所述第一電極與所述第二電極的熔點相差50℃以上。
優(yōu)選地,所述載氣氣源為氮氣和/或惰性氣體。
優(yōu)選地,所述載氣氣源的流量為0.01-30L/min。
優(yōu)選地,所述第一電極為圓柱狀,所述第一電極的直徑為1-100mm;
所述第二電極為圓柱狀,所述第二電極的直徑為1-100mm。
優(yōu)選地,所述第一電極選自導(dǎo)體材料或半導(dǎo)體材料;
所述第二電極選自導(dǎo)體材料或半導(dǎo)體材料。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廣東工業(yè)大學(xué),未經(jīng)廣東工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010711907.4/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





