[發明專利]一種用于物理氣相沉積的球體零件鍍膜夾具

在審

• 申請號: 202010711606.1
• 申請日: 2020-07-22
• 公開（公告）號: CN111850502A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 陳火根
• 申請（專利權）人: 昆山歐思克精密工具有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50
• 代理公司: 蘇州睿昊知識產權代理事務所(普通合伙) 32277
• 代理人: 沈彬彬

本發明公開了一種用于物理氣相沉積的球體零件鍍膜夾具，包括分別固定在轉爐桿上的上夾具和下夾具，所述上夾具包括套設在轉爐桿上的基盤，所述基盤上設置有若干轉盤軸承，所述轉盤軸承內設置有上支架；所述下夾具包括依次套設在轉爐桿上的底盤、中盤和上盤，所述上盤固定在所述轉爐桿上，所述上盤設置有與所述轉盤軸承位置對應的轉動柱，所述轉動柱上設置有與所述上支架位置對應的下支架，所述底盤固定在上盤上，所述中盤夾在底盤和上盤之間，所述中盤能夠相對于底盤和上盤轉動，所述中盤的一側設置有突出部，所述突出部上設置有撥片，所述撥片能夠撥動所述轉動柱轉動。本發明的球體零件鍍膜夾具，實現對球體零件的夾持和旋轉噴涂。

技術領域

本發明涉及物理氣相沉積技術零件鍍膜領域，具體涉及用于物理氣相沉積的球體零件鍍膜夾具。

背景技術

物理氣相沉積(簡稱PVD)是將金屬、合金或化合物放在真空室中蒸發(或稱濺射)，使這些氣相原子或分子在一定條件下沉積在工件表面上的工藝。物理氣相沉積可分為真空蒸鍍、真空濺射和離子鍍互類。與CVD相比，PVD法的主要優點是處理溫度較低，沉積速度較快，無公害等，因而有很高的實用價值。

隨著物理氣相沉積技術的發展，鍍膜的夾具層出不窮，但是目前市場上還未出現針對球體零件的PVD涂層夾具，因為球體零件不易夾持固定，并且從固定位置對球體零件的球面進行涂層，涂層效果不好。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供，一種用于物理氣相沉積的球體零件鍍膜夾具，實現對球體零件的夾持和旋轉噴涂。

為了解決上述技術問題，本發明提供了一種用于物理氣相沉積的球體零件鍍膜夾具，包括分別固定在轉爐桿上的上夾具和下夾具，所述上夾具包括套設在轉爐桿上的基盤，所述基盤上設置有若干轉盤軸承，所述轉盤軸承內設置有上支架；所述下夾具包括依次套設在轉爐桿上的底盤、中盤和上盤，所述上盤固定在所述轉爐桿上，所述上盤設置有與所述轉盤軸承位置對應的轉動柱，所述轉動柱上設置有與所述上支架位置對應的下支架，所述底盤固定在上盤上，所述中盤夾在底盤和上盤之間，所述中盤能夠相對于底盤和上盤轉動，所述中盤的一側設置有突出部，所述突出部上設置有撥片，所述撥片能夠撥動所述轉動柱轉動。

本發明一個較佳實施例中，進一步包括所述轉盤軸承和轉動柱均以轉爐桿為中心，分別周向均勻分布在基盤和上盤上。

本發明一個較佳實施例中，進一步包括所述上盤上突出設置有小圓柱，所述轉動柱底端設置有圓柱孔與上盤上小圓柱配合，所述轉動柱能夠在小圓柱上轉動。

本發明一個較佳實施例中，進一步包括所述轉動柱的外周設置有與所述撥片配合的轉動柱凹槽。

本發明一個較佳實施例中，進一步包括所述上支架與所述轉盤軸承分體連接，所述下支架與所述轉動柱分體連接。

本發明一個較佳實施例中，進一步包括所述上支架插入到所述轉盤軸承中，所述上支架與轉盤軸承采用過盈配合的方式連接。

本發明一個較佳實施例中，進一步包括所述下支架與所述轉動柱通過螺紋連接。

本發明一個較佳實施例中，進一步包括所述上支架和下支架的端面均設置有與所述球體零件匹配的球形凹槽。

本發明一個較佳實施例中，進一步包括所述轉爐桿上設置有多個固定凹槽，所述基盤和上盤均通過緊固螺釘旋入到固定凹槽中將基盤和上盤的位置固定。

本發明一個較佳實施例中，進一步包括所述撥片通過撥片立柱和撥片螺釘固定在中盤的突出部上，所述撥片立柱焊接或者通過螺栓連接在所述中盤上。

本發明的有益效果：