[發明專利]一種銅質焊盤表面銅氧化層還原修復劑及常溫原位還原修復方法在審
| 申請號: | 202010699427.0 | 申請日: | 2020-07-20 |
| 公開(公告)號: | CN111954378A | 公開(公告)日: | 2020-11-17 |
| 發明(設計)人: | 馬聚沙;王志彬;符春娥;徐曉炯;尤黔林;方良超;范襄;楊佩;陸劍峰 | 申請(專利權)人: | 上海空間電源研究所 |
| 主分類號: | H05K3/00 | 分類號: | H05K3/00;C23C18/40 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 王永芳 |
| 地址: | 200245 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 銅質焊盤 表面 氧化 還原 修復 常溫 原位 方法 | ||
1.一種銅質焊盤表面銅氧化層還原修復劑,其特征在于,包括以下質量份的原料:
酒石酸1~20份,乙酸1~20份,硫脲1~20份,次亞磷酸鈉1~20份,正十二烷基磷酸0.1~1份,正十二烷基苯磺酸鈉0.1~1份,2-己基苯并咪唑0.1~1份,苯并三氮唑0.1~1份,醋酸銅0.01~0.1份,十六烷基三甲基溴化銨0.01~0.1份,去離子水60~95份。
2.根據權利要求1所述的還原修復劑,其特征在于,該還原修復劑包括以下質量份的原料:
酒石酸3~12份,乙酸3~12份,硫脲3~12份,次亞磷酸鈉4~12份,正十二烷基磷酸0.2~0.8份,正十二烷基苯磺酸鈉0.2~0.8份,2-己基苯并咪唑0.3~0.8份,苯并三氮唑0.3~0.8份,醋酸銅0.05~0.1份,十六烷基三甲基溴化銨0.05~0.1份,去離子水60~80份。
3.根據權利要求1所述的還原修復劑,其特征在于,該還原修復劑包括以下質量份的原料:
酒石酸3~5份,乙酸3~6份,硫脲3~8份,次亞磷酸鈉4~6份,正十二烷基磷酸0.2~0.8份,正十二烷基苯磺酸鈉0.5~0.8份,2-己基苯并咪唑0.3~0.4份,苯并三氮唑0.3~0.4份,醋酸銅0.05~0.1份,十六烷基三甲基溴化銨0.05~0.1份,去離子水60~80份。
4.根據權利要求1所述的還原修復劑,其特征在于,該還原修復劑包括以下質量份的原料:
酒石酸5份,乙酸5份,硫脲4份,次亞磷酸鈉4份,正十二烷基磷酸0.5份,正十二烷基苯磺酸鈉0.5份,2-己基苯并咪唑0.4份,苯并三氮唑0.4份,醋酸銅0.1份,十六烷基三甲基溴化銨0.1份,去離子水80份。
5.根據權利要求1所述的還原修復劑,其特征在于,該還原修復劑包括以下質量份的原料:
酒石酸3份,乙酸6份,硫脲3份,次亞磷酸鈉6份,正十二烷基磷酸0.8份,正十二烷基苯磺酸鈉0.5份,2-己基苯并咪唑0.3份,苯并三氮唑0.3份,醋酸銅0.05份,十六烷基三甲基溴化銨0.05份,去離子水80份。
6.根據權利要求1所述的還原修復劑,其特征在于,該還原修復劑包括以下質量份的原料:
酒石酸3份,乙酸3份,硫脲8份,次亞磷酸鈉4份,正十二烷基磷酸0.2份,正十二烷基苯磺酸鈉0.8份,2-己基苯并咪唑0.4份,苯并三氮唑0.4份,醋酸銅0.1份,十六烷基三甲基溴化銨0.1份,去離子水80份。
7.一種銅質焊盤表面銅氧化層常溫原位還原修復方法,其特征在于,采用權利要求1至6之一所述的還原修復液實施銅氧化層常溫原位還原修復,包括如下步驟:
步驟1,按照設定的質量份數配制銅氧化層還原修復液;
步驟2,用織物蘸取還原修復液,輕拭具有氧化層的銅質焊盤表面,直至銅質焊盤表面恢復銅本色;
步驟3,焊接前清除銅質焊盤表面的還原修復液。
8.根據權利要求7所述的還原修復方法,其特征在于,步驟2中,使用無紡布蘸取配制好的還原修復液,按一個方向輕拭銅質焊盤表面存在氧化層的部位,直至銅質焊盤表面恢復銅本色。
9.根據權利要求7所述的還原修復方法,其特征在于,步驟3中,焊接前清除銅質焊盤表面的還原修復液的具體實施方法為:使用無紡布蘸取酒精溶液,擦拭銅質焊盤表面,對銅質焊盤表面進行酸堿性測試,若檢測結果顯示pH值小于7.0,則重復酒精擦拭的操作直至pH值大于等于7.0。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海空間電源研究所,未經上海空間電源研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010699427.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





