[發(fā)明專利]一種基片架結(jié)構(gòu)及真空蒸鍍裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010699022.7
• 申請日: 2020-07-20
• 公開（公告）號: CN111850501B
• 公開（公告）日: 2022-09-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃穩(wěn);張敬娣;梁艦;宋祥慧;陳敏;顧婉瑩;武啟飛;馮敏強(qiáng);廖良生
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇集萃有機(jī)光電技術(shù)研究所有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種基片架結(jié)構(gòu)，包括設(shè)置有冷卻水緩沖區(qū)(11)的基片架(1)以及與所述冷卻水緩沖區(qū)(11)連通的水管(21)和第一水口(22)，冷卻水能依次流經(jīng)所述水管(21)、所述冷卻水緩沖區(qū)(11)和所述第一水口(22)或依次流經(jīng)所述第一水口(22)、所述冷卻水緩沖區(qū)(11)和所述水管(21)對所述基片架(1)進(jìn)行冷卻，其特征在于，

還包括由靠近至遠(yuǎn)離所述基片架(1)的方向依次套設(shè)于所述水管(21)上的第一磁流體(3)和第二磁流體(4)；

所述第一磁流體(3)包括相互轉(zhuǎn)動連接的第一內(nèi)管(31)和第一外管(32)，所述第二磁流體(4)包括相互轉(zhuǎn)動連接的第二內(nèi)管(41)和第二外管(42)，所述第一內(nèi)管(31)與所述基片架(1)和第二外管(42)連接，且所述第一內(nèi)管(31)能夠沿所述水管(21)的軸線轉(zhuǎn)動；

所述第二內(nèi)管(41)的內(nèi)壁與所述水管(21)的外壁圍成水通路(23)，所述水通路(23)一端與所述冷卻水緩沖區(qū)(11)連通，另一端與所述第一水口(22)連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片架結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括冷卻水套(24)，所述冷卻水套(24)與所述第二內(nèi)管(41)連接，所述第一水口(22)設(shè)置于所述冷卻水套(24)上，所述冷卻水套(24)上還設(shè)置有第二水口(25)，所述第二水口(25)與所述水管(21)連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片架結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括驅(qū)動組件(5)，其輸出端設(shè)置有第一帶輪(51)，所述第一內(nèi)管(31)的外周設(shè)置有與所述第一帶輪(51)連接的第二帶輪(33)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基片架結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述驅(qū)動組件(5)包括驅(qū)動電機(jī)(52)和與所述驅(qū)動電機(jī)(52)的輸出端連接的減速器(53)，所述第一帶輪(51)設(shè)置在所述減速器(53)的輸出端。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片架結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述基片架(1)包括相互扣合的冷卻上板(12)和冷卻下板(13)，所述冷卻上板(12)和所述冷卻下板(13)之間圍成所述冷卻水緩沖區(qū)(11)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基片架結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述冷卻上板(12)或所述冷卻下板(13)上設(shè)置有密封環(huán)槽(131)，以密封所述冷卻水緩沖區(qū)(11)。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基片架結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述基片架(1)還包括：

上基片托盤(15)，設(shè)置于所述冷卻上板(12)遠(yuǎn)離所述冷卻下板(13)的一端，所述上基片托盤(15)上設(shè)置有第一基片座；

下基片托盤(16)，設(shè)置于所述冷卻下板(13)遠(yuǎn)離所述冷卻上板(12)的一端，所述下基片托盤(16)與所述冷卻下板(13)連接，所述下基片托盤(16)上設(shè)置有第二基片座，所述第二基片座的面積大于所述第一基片座的面積。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基片架結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述基片架結(jié)構(gòu)還包括提升組件(6)，所述提升組件(6)與所述上基片托盤(15)連接，以提升所述上基片托盤(15)，使所述上基片托盤(15)與所述冷卻上板(12)脫離，或降下所述上基片托盤(15)，使所述上基片托盤(15)與所述冷卻上板(12)連接。