[發明專利]一種晶圓雙面金屬工藝在審
| 申請號: | 202010699004.9 | 申請日: | 2020-07-20 |
| 公開(公告)號: | CN111799152A | 公開(公告)日: | 2020-10-20 |
| 發明(設計)人: | 嚴立巍;李景賢;陳政勛 | 申請(專利權)人: | 紹興同芯成集成電路有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02;H01L21/48;H01L21/82 |
| 代理公司: | 北京同輝知識產權代理事務所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 王依 |
| 地址: | 312000 浙江省紹興市越城區*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 雙面 金屬工藝 | ||
1.一種晶圓雙面金屬工藝,其特征在于,包括以下步驟:
S1:通過研磨或蝕刻晶圓的一端面,使得所述晶圓呈中央薄且邊緣厚,而后依次進行離子注入與加熱退火;
S2:對所述晶圓的另一端面進行金屬鍍膜;
S3:對所述晶圓的一端面涂布聚酰亞胺,并加熱,使所述聚酰亞胺硬化,形成聚酰亞胺涂層;
S4:在所述晶圓的另一端面依次進行光阻涂布、曝光與顯影;
S5:去除涂布在所述晶圓的另一端面的光阻,以及所述聚酰亞胺涂層,清洗所述晶圓;
S6:對所述晶圓的一端面進行金屬鍍膜;
S7:將所述晶圓固定在切割??蛏?,使用含氟電漿或雷射進行切割。
2.根據權利要求1所述的晶圓雙面金屬工藝,其特征在于,所述聚酰亞胺涂層的厚度為20~50微米。
3.根據權利要求1所述的晶圓雙面金屬工藝,其特征在于,所述金屬鍍層的材質為銅或鋁。
4.根據權利要求1所述的晶圓雙面金屬工藝,其特征在于,在所述步驟S5中,使用氧電漿去除所述光阻或所述聚酰亞胺涂層。
5.根據權利要求1所述的晶圓雙面金屬工藝,其特征在于,在所述步驟S2中,將聚酰亞胺加熱至250~300℃,以實現聚酰亞胺的硬化。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





