[發明專利]一種多層氣藏井下分布式溫度監測產出剖面解釋評價方法

有效

• 申請號: 202010698375.5
• 申請日: 2020-07-20
• 公開（公告）號: CN111648764B
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 魏明強;段永剛;梁豪;吳木旺;張銳鐸;伍梓健;衛詩豪;盛舒遙;岳陶;陳旭
• 申請（專利權）人: 西南石油大學
• 主分類號: E21B47/07
• 分類號: E21B47/07;E21B49/00;G06F30/20
• 代理公司: 北京中索知識產權代理有限公司 11640
• 代理人: 房立普

1.一種多層氣藏井下分布式溫度監測產出剖面解釋評價方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、獲取目標井井下分布式溫度監測數據；

S2、對井下分布式溫度監測數據進行預處理，獲得不同時刻正常趨勢的溫度監測數據；所述步驟S2的具體過程為：對井下分布式溫度監測數據采用全局概率法進行比較分析，再通過平滑濾波對溫度監測數據進行預處理，獲得了不同時刻正常趨勢的溫度監測數據；

S3、根據目標井的測試曲線特征和測井解釋結果，將步驟S2獲得的溫度監測數據進行分段；

S4、利用多層氣藏滲流壓力場-溫度場模型采用數值模擬方法計算目標井井筒產出剖面各層溫度；

所述步驟S4中的多層氣藏滲流壓力場-溫度場模型包括多層氣藏壓力場模型和多層氣藏井底溫度場模型；

其多層氣藏壓力場模型如下：

內邊界條件：

封閉外邊界：

式中：r為距井的距離，m；p_Li為i層氣層壓力，i表示氣藏層編號；φ_Li為i層氣層孔隙度，小數；c_tLi為i層氣層綜合壓縮系數，MPa^-1；k_Li為i層氣層滲透率，mD；r_w為井半徑，m；r_e為井控半徑，m；q_Li為i層氣層產出量，m³/d；t為生產時間，day；

多層氣藏井底溫度場模型如下：

式中：U_Li為i氣層的單位質量的內能，J/Kg；ρ_Li為i氣層的流體密度，kg/m³；v_Li為i氣層速度，m/s；τ為粘滯耗散系數；q_Li為i層氣層產出量，m³/d；

S5、將步驟S4中計算得到的井筒產出剖面各層溫度與步驟S3中分段后的溫度監測數據進行對比，采用最優化理論獲得最優的產出各層流量，根據最優的產出各層流量獲得目標井的產出剖面；

所述步驟S5中具體的過程為：將步驟S3產出剖面各層溫度與分段后的溫度數據進行對比，若二者之間的誤差大于5％，則調整滲透率、產出各層流量重新計算井筒產出剖面各層溫度，再重新進行對比；直到二者之間的誤差不大于5％，則調整后的產出各層流量為最優的產出各層流量，根據所述最優的產出各層流量獲得目標井的產出剖面。