[發(fā)明專利]一種用于小型金屬件的電鍍和清洗一體化裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010695518.7
• 申請(qǐng)日: 2020-07-20
• 公開（公告）號(hào): CN111809224A
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張金德;張寬波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 張寬波
• 主分類號(hào): C25D17/18
• 分類號(hào): C25D17/18;C25D21/02;C25D21/12;B08B3/02
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• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明涉及金屬材料鍍覆的技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種用于小型金屬件的電鍍和清洗一體化裝置，包括支架和蓋板，所述支架的內(nèi)部活動(dòng)連接有絲桿，絲桿的外部活動(dòng)連接有連接桿，連接桿的外部活動(dòng)連接有滑塊，支架的外部固定連接有外殼，外殼的內(nèi)部固定連接有加熱器，外殼的外部固定連接有封裝殼；通過支架、蓋板、絲桿、連接桿、滑塊、外殼、加熱器、封裝殼、電極塊之間的相互作用下，可以使得本裝置在取出電鍍件時(shí)更為方便，避免了由于電鍍?cè)O(shè)備過重造成電鍍件取出麻煩的問題，并且通過金屬汞的熱脹冷縮來實(shí)現(xiàn)調(diào)控加熱器的運(yùn)行，這樣就可以使得電解液的溫度始終處于最佳的使用區(qū)間內(nèi)，保證了電鍍作業(yè)的順利進(jìn)行。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及金屬材料鍍覆的技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種用于小型金屬件的電鍍和清洗一體化裝置。

背景技術(shù)

現(xiàn)今金屬材料在使用的時(shí)候一般都會(huì)采用電鍍的工藝，這樣可以保證金屬材料的耐久度以及方便后續(xù)的使用。

在常見的小型金屬件電鍍工藝中，一般都是采用對(duì)電解液進(jìn)行電解，使得電解液中的金屬陽離子附著在電鍍件的外部，這樣的操作往往需要使得電解液的溫度維持在對(duì)不同電鍍件進(jìn)行電鍍時(shí)所對(duì)應(yīng)的溫度區(qū)間，但是現(xiàn)有技術(shù)的電鍍?cè)O(shè)備往往只有溫度檢測(cè)裝置，這樣并不能自動(dòng)對(duì)電解液的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)，這就會(huì)使得電鍍作業(yè)的溫度控制會(huì)出現(xiàn)偏差，不適合實(shí)際作業(yè)下的使用；并且現(xiàn)有技術(shù)在電鍍之后需要將電鍍件從電解液中取出再進(jìn)行清洗，這樣的清洗方式太過于繁瑣。

所以針對(duì)這些問題，我們需要一種用于小型金屬件的電鍍和清洗一體化裝置來解決。

發(fā)明內(nèi)容

(一)解決的技術(shù)問題

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種用于小型金屬件的電鍍和清洗一體化裝置，具備自動(dòng)恒溫以及清洗方式簡(jiǎn)便的優(yōu)點(diǎn)，解決了現(xiàn)有技術(shù)的電鍍?cè)O(shè)備往往只有溫度檢測(cè)裝置，這樣并不能自動(dòng)對(duì)電解液的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)，這就會(huì)使得電鍍作業(yè)的溫度控制會(huì)出現(xiàn)偏差，不適合實(shí)際作業(yè)下的使用；并且現(xiàn)有技術(shù)在電鍍之后需要將電鍍件從電解液中取出再進(jìn)行清洗，這樣的清洗方式太過于繁瑣的問題。

(二)技術(shù)方案

為實(shí)現(xiàn)上述自動(dòng)恒溫以及清洗方式簡(jiǎn)便的目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種用于小型金屬件的電鍍和清洗一體化裝置，包括支架和蓋板，所述支架的內(nèi)部活動(dòng)連接有絲桿，絲桿的外部活動(dòng)連接有連接桿，連接桿的外部活動(dòng)連接有滑塊，支架的外部固定連接有外殼，外殼的內(nèi)部固定連接有加熱器，外殼的外部固定連接有封裝殼，封裝殼的內(nèi)部固定連接有電極塊，蓋板的外部固定連接有電機(jī)，電機(jī)的外部固定連接有轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸的外部活動(dòng)連接有連桿，連桿的外部活動(dòng)連接有彈簧，轉(zhuǎn)軸的外部活動(dòng)連接有轉(zhuǎn)盤，蓋板的內(nèi)部活動(dòng)連接有轉(zhuǎn)桿，轉(zhuǎn)桿的外部固定連接有齒輪，蓋板的內(nèi)部固定連接有電極棒。

優(yōu)選的，所述支架的內(nèi)表面開設(shè)有滑槽，連接桿遠(yuǎn)離絲桿的一側(cè)活動(dòng)連接在滑槽的內(nèi)側(cè)，滑塊活動(dòng)連接在絲桿的外部，滑塊活動(dòng)連接在支架的內(nèi)部，滑塊遠(yuǎn)離絲桿的一側(cè)固定連接在蓋板的外部，蓋板的外部固定連接有兩個(gè)位置相對(duì)稱的滑塊，絲桿、連接桿均有兩個(gè)。

優(yōu)選的，所述蓋板的規(guī)格與外殼的規(guī)格相匹配，蓋板的外部設(shè)置有與外殼規(guī)格相匹配的密封圈，外殼的外部設(shè)置有排液閥門，蓋板的表面開設(shè)有排氣孔。

優(yōu)選的，所述封裝殼的右端處于外殼的內(nèi)部且其右端設(shè)置有導(dǎo)熱板，封裝殼的內(nèi)部設(shè)置有金屬汞，電極塊有兩個(gè)，一個(gè)固定連接在封裝殼的內(nèi)頂部，另一個(gè)固定連接在封裝殼的內(nèi)底部且該電極塊的外部與金屬汞相接觸。