[發(fā)明專利]污染土壤修復(fù)系統(tǒng)和修復(fù)污染土壤的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010694603.1
• 申請日: 2020-07-17
• 公開（公告）號: CN111715684A
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 任立明;李曉騰;張思洋;吳盟盟
• 申請（專利權(quán)）人: 西藏神州瑞霖環(huán)?？萍脊煞萦邢薰?/a>
• 主分類號: B09C1/02
• 分類號: B09C1/02;B09C1/08;E03F5/22
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 施敬勃

1.一種污染土壤修復(fù)系統(tǒng)，其特征在于，包括：

淋洗設(shè)備，包括藥劑罐(200)、淋洗注入裝置(300)和注入井(400)，所述藥劑罐(200)能夠儲存表面活性劑和雙氧水中的至少一者，所述注入井(400)伸入污染土壤(100)中，所述淋洗注入裝置(300)能夠?qū)⑺鏊巹┕?200)中的藥劑輸送至所述注入井(400)；

抽提設(shè)備，包括抽吸裝置(700)和抽提井(500)，所述抽提井(500)伸入所述污染土壤(100)中，所述抽吸裝置(700)與所述抽提井(500)連接，且所述注入井(400)和所述抽提井(500)之間具有淋洗間距。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污染土壤修復(fù)系統(tǒng)，其特征在于，所述注入井(400)的深度小于所述抽提井(500)的深度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污染土壤修復(fù)系統(tǒng)，其特征在于，

所述注入井(400)包括靠近所述污染土壤(100)的表面的輸入管段(410)和遠(yuǎn)離所述污染土壤(100)的表面的注入管段(420)，所述注入管段(420)為割縫管；

所述抽提井(500)包括靠近所述污染土壤(100)的表面的輸出管段(510)和遠(yuǎn)離所述污染土壤(100)的表面的抽吸管段(520)，所述抽吸管段(520)為割縫管。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污染土壤修復(fù)系統(tǒng)，其特征在于，所述淋洗設(shè)備包括多個(gè)所述注入井(400)，多個(gè)所述注入井(400)沿所述抽提井(500)的周向間隔布置，其中，所述抽提井(500)的數(shù)量和所述注入井(400)的數(shù)量之比為1：4。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污染土壤修復(fù)系統(tǒng)，其特征在于，所述抽提設(shè)備包括氣液分離裝置(600)、氣體處理裝置(800)和液體儲存裝置(900)，所述氣液分離裝置(600)設(shè)置于所述抽吸裝置(700)和所述抽提井(500)之間，所述氣液分離裝置(600)包括氣體出口和液體出口，其中，所述氣體出口與所述氣體處理裝置(800)連接，所述液體出口與所述液體儲存裝置(900)連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的污染土壤修復(fù)系統(tǒng)，其特征在于，所述抽吸裝置(700)設(shè)置于所述氣體出口和所述氣體處理裝置(800)之間，所述氣液分離裝置(600)分離出的氣體通過所述抽吸裝置(700)輸送至所述氣體處理裝置(800)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污染土壤修復(fù)系統(tǒng)，其特征在于，所述藥劑罐(200)包括表面活性劑藥劑罐(210)和雙氧水藥劑罐(220)，其中，所述表面活性劑藥劑罐(210)和/或所述雙氧水藥劑罐(220)中設(shè)置有攪拌裝置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污染土壤修復(fù)系統(tǒng)，其特征在于，所述抽吸裝置(700)包括真空泵、真空罐，所述抽提設(shè)備還包括抽吸管，所述抽吸管連接所述抽吸裝置(700)和所述抽提井(500)，所述抽吸管包括抽液管(710)和抽氣管(720)，所述真空泵能夠調(diào)整所述真空罐內(nèi)的壓強(qiáng)，以使所述抽吸裝置(700)的抽提壓力能夠在液相抽提壓力和氣相抽提壓力之間調(diào)整，其中，

在所述抽提壓力為所述液相抽提壓力時(shí)，所述抽液管(710)導(dǎo)通，所述抽氣管(720)斷開；

在所述抽提壓力為所述氣相抽提壓力時(shí)，所述抽氣管(720)導(dǎo)通，所述抽液管(710)斷開。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任意一項(xiàng)所述的污染土壤修復(fù)系統(tǒng)，其特征在于，所述污染土壤修復(fù)系統(tǒng)包括控制裝置，其中，

所述控制裝置能夠控制所述抽提設(shè)備的抽提流量；和/或

所述控制裝置能夠控制所述抽吸裝置(700)的抽提壓力；和/或

所述控制裝置能夠控制所述淋洗設(shè)備的淋洗流量；和/或

所述淋洗設(shè)備具有淋洗所述表面活性劑的第一狀態(tài)和淋洗所述雙氧水的第二狀態(tài)，所述控制裝置能夠控制所述淋洗設(shè)備在所述第一狀態(tài)和所述第二狀態(tài)之間切換。