[發明專利]一種國產化容器云平臺存儲卷動態創建方法及裝置在審
| 申請號: | 202010693833.6 | 申請日: | 2020-07-17 |
| 公開(公告)號: | CN111966450A | 公開(公告)日: | 2020-11-20 |
| 發明(設計)人: | 王志國;劉正偉 | 申請(專利權)人: | 蘇州浪潮智能科技有限公司 |
| 主分類號: | G06F9/455 | 分類號: | G06F9/455;G06F3/06;G06F16/182 |
| 代理公司: | 濟南舜源專利事務所有限公司 37205 | 代理人: | 張營磊 |
| 地址: | 215100 江蘇省蘇州市吳*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 國產化 容器 平臺 存儲 動態 創建 方法 裝置 | ||
1.一種國產化容器云平臺存儲卷動態創建方法,其特征在于,包括如下步驟:
S 1.選擇國產化后端存儲創建存儲池,設置存儲池延遲創建特性,使得存儲卷創建時間延遲到容器組應用調度到工作節點之后,設置存儲池拓撲關系;
S2.選擇具有延遲創建特性以及設定拓撲關系的存儲池,創建存儲卷聲明;
S3.將容器組應用調度到滿足存儲池拓撲關系的工作節點,再根據存儲卷聲明創建存儲卷并將存儲卷掛載到容器組應用所在的工作節點。
2.如權利要求1所述的國產化容器云平臺存儲卷動態創建方法,其特征在于,步驟S1具體步驟如下:
S 11.選擇容器云平臺對接的國產化后端存儲及開源網絡存儲;
S 12.獲取并設置國產化后端存儲及開源網絡存儲的運行參數;
S 13.設置存儲卷創建時間延遲參數,并將存儲卷創建時間延遲參數傳遞到Kubernetes底層,實現Kubernetes底層的存儲池創建卷時間延遲到容器組應用調度到工作節點之后;
S 14.獲取并設置存儲池的拓撲關系參數,并將存儲池的拓撲關系參數傳遞到Kubernete s底層,滿足Kubernetes底層存儲池的拓撲位置需求;
S 15.獲取存儲池的卷創建插件類型。
3.如權利要求2所述的國產化容器云平臺存儲卷動態創建方法,其特征在于,所述國產化后端存儲包括國產化統一存儲、海量塊存儲以及高速共享存儲;
所述開源網絡存儲包括ceph分布式文件系統、nfs網絡文件系統以及Ho stpath本地存儲;
所述國產化后端存儲及開源網絡存儲的運行參數包括存儲池名稱、元數據池名稱、卷類型、是否開啟壓縮、是否開啟精簡以及是否開啟分層;
所述卷創建插件類型為CSI類型,包括X86架構CSI存儲插件、ARM架構CSI存儲插件以及MIPS架構CSI存儲插件。
4.如權利要求2所述的國產化容器云平臺存儲卷動態創建方法,其特征在于,步驟S2具體步驟如下:
S21.設置存儲卷聲明為命名空間級別,選擇虛擬數據中心以及用戶名稱;
S22.設置拓撲位置,選擇創建時間延遲參數,且拓撲位置與設置拓撲位置相同的存儲池;
S23.獲取并設置存儲池特性參數,所述存儲池特性參數包括訪問模式特性參數、卷容量特性參數以及卷擴容特性參數;
S24.判斷是否需要設置卷容量,并在需要設置卷容量時,進行卷容量值。
5.如權利要求4所述的國產化容器云平臺存儲卷動態創建方法,其特征在于,步驟S23中,訪問模式特性參數包括單節點讀寫、多節點讀寫以及多節點只讀;
卷容量特性參數包括有限制卷容量及無限制卷容量,卷擴容特性參數包括支持卷擴容及不支持卷擴容。
6.如權利要求4所述的國產化容器云平臺存儲卷動態創建方法,其特征在于,步驟S3具體步驟如下:
S31.選擇用戶名稱下需要掛載的容器組應用;
S32.選擇需要掛載的容器組應用的組件,并過濾掉不滿足存儲池拓撲關系的組件;
S33.獲取待創建存儲卷掛載的路徑;
S34.將過濾后的容器組應用組件調度到符合存儲池拓撲關系的工作節點;
S35.通過對應驅動類型的卷創建插件進行存儲卷動態創建,并將存儲卷掛載到容器組應用組件調度的工作節點。
7.一種國產化容器云平臺存儲卷動態創建裝置,其特征在于,包括:
存儲池管理模塊(1),用于選擇國產化后端存儲創建存儲池,設置存儲池延遲創建特性,使得存儲卷創建時間延遲到容器組應用調度到工作節點之后,設置存儲池拓撲關系;
存儲卷聲明創建模塊(2),用于選擇具有延遲創建特性以及設定拓撲關系的存儲池,創建存儲卷聲明;
存儲卷創建及掛載模塊(3),用于將容器組應用調度到滿足存儲池拓撲關系的工作節點,再根據存儲卷聲明創建存儲卷并將存儲卷掛載到容器組應用所在的工作節點。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蘇州浪潮智能科技有限公司,未經蘇州浪潮智能科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010693833.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種氧傳感器的控制方法
- 下一篇:一種高透射率的納米氧化硅薄膜及其制備工藝





