[發明專利]一種彎管過濾式涂層機

在審

• 申請號: 202010691091.3
• 申請日: 2020-07-17
• 公開（公告）號: CN111809156A
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 王俊鋒;袁明;王鋒
• 申請（專利權）人: 廣東鼎泰機器人科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215
• 代理人: 袁敏怡

本發明涉及涂層設備技術領域，尤其是指一種彎管過濾式涂層機，其包括控制柜、真空泵、真空容器、若干個靶材離化機構和若干個離子發生機構；真空容器設置有真空內腔；靶材離化機構包括安裝座、引弧機構、驅動機構、靶材夾頭機構、冷卻機構和真空管機構，真空管機構包括弧形管組件和多組直管組件；弧形管組件和直管組件均包括內管、外管、第一連接塊、第二連接塊和多個鎖緊件。本申請的涂層機的靶材離化機構通過兩種冷卻方式分別對靶材夾頭機構所夾緊的離化靶材和真空管機構進行冷卻，大大地提高了靶材離化機構的冷卻效果。同時，靶材夾頭機構設置有一段弧形管組件，弧形管組件具有一定的弧度，增加本申請的涂層機的過濾效果。

技術領域

本發明涉及涂層設備技術領域，尤其是指一種彎管過濾式涂層機。

背景技術

真空鍍膜技術作為一種產生特定膜層的技術，在現實生產生活中有著廣泛的應用。真空鍍膜技術有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。其中濺射鍍膜可以被認為是鍍膜技術中最突出的成就之一。它以濺射率高、基材溫升低、膜-基結合力好、裝置性能穩定、操作控制方便等優點，成為鍍膜工業應用領域特別是建筑鍍膜玻璃、透明導電膜玻璃、柔性基材卷繞鍍等對大面積的均勻性有特別苛刻要求的連續鍍膜場合的首選方案。

涂層機的靶材離化機構在工作中會產生大量的熱量，現有的靶材離化機構的冷卻效果差，靶材離化機構所產生的熱量會影響整個濺射過程，從而導致鍍膜失敗。此外，靶材離化機構所產生的熱量會影響靶材離化機構內部的零部件，使得靶材離化機構不能正常地工作，甚至會造成靶材離化機構的損壞，增加生產的成本。同時，靶材離化機構的真空管機構均為直管，對某些被離化的雜原子或離子的過濾效果差。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種彎管過濾式涂層機，該涂層機的靶材離化機構通過兩種冷卻方式分別對靶材夾頭機構所夾緊的離化靶材和真空管機構進行冷卻，大大地提高了靶材離化機構的冷卻效果，保護了靶材離化機構內部的零部件，保證靶材離化機構能穩定地正常工作，降低了靶材離化機構的故障率和維修率，進而降低了生產的成本。同時，靶材夾頭機構設置有一段弧形管組件，弧形管組件具有一定的弧度，能更好地將某些被離化的雜原子或離子擋落至弧形管組件的內管上，增加本申請的涂層機的過濾效果。

為了解決上述技術問題，本發明采用如下技術方案：

一種彎管過濾式涂層機，其包括控制柜和真空泵，還包括真空容器、若干個靶材離化機構和若干個離子發生機構；所述真空容器設置有真空內腔，若干個所述離子發生機構分別裝設于真空內腔并用于向真空內腔產生離子；若干個所述靶材離化機構分別連接于真空容器；所述真空泵連接于真空容器并用于對真空容器進行抽真空處理；所述真空泵、若干個靶材離化機構和若干個離子發生機構均與控制柜電性連接；

所述靶材離化機構包括安裝座、引弧機構、驅動機構、靶材夾頭機構、冷卻機構和真空管機構；所述真空管機構包括弧形管組件和多組直管組件，弧形管組件的兩端分別連接有至少一組直管組件；所述弧形管組件和直管組件均包括內管、外管、第一連接塊、第二連接塊和多個鎖緊件；

所述真空管機構連接于真空容器，所述內管與真空內腔連通；所述內管的兩端分別連接于第一連接塊和第二連接塊，所述外管的兩端分別連接于第一連接塊和第二連接塊，外管套設于內管的外側，外管與內管之間設置有第一冷卻液腔；

所述外管設置有第一進水口和第一出水口，第一進水口和第一出水口均與第一冷卻液腔連通；所述第一連接塊連接于安裝座或相鄰弧形管組件的第二連接塊或相鄰直管組件的第二連接塊，所述第二連接塊連接于相鄰弧形管組件的第一連接塊或相鄰直管組件的第一連接塊，多個鎖緊件用于將第一連接塊鎖緊于安裝座，多個鎖緊螺釘也用于將第二連接塊鎖緊于相鄰弧形管組件的第一連接塊或相鄰直管組件的第一連接塊；所述外管的外側套設有電磁感應線圈；