[發(fā)明專利]一種靶材的磁性彎管機(jī)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010690783.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-07-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111763918A | 公開(公告)日: | 2020-10-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王俊鋒;袁明;王鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東鼎泰機(jī)器人科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35 |
| 代理公司: | 東莞市華南專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44215 | 代理人: | 袁敏怡 |
| 地址: | 523000 廣東省東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 磁性 彎管 機(jī)構(gòu) | ||
1.一種靶材的磁性彎管機(jī)構(gòu),包括基座,其特征在于:還包括真空彎管件、電磁線圈以及均安裝于基座的靶材液冷固定組件和引弧組件,基座安裝于真空彎管件的一端,電磁線圈繞設(shè)于真空彎管件的外壁,靶材液冷固定組件用于安裝靶材并對(duì)靶材降溫,引弧組件用于驅(qū)使該靶材產(chǎn)生弧斑,帶電的濺射原子的移動(dòng)軌跡與真空彎管件的中心軸線重合設(shè)置或平行設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種靶材的磁性彎管機(jī)構(gòu),其特征在于:所述靶材液冷固定組件包括安裝于基座的液冷管件、安裝于液冷管件一端的夾持件以及安裝于液冷管件另一端的連接管件,液冷管件安裝有夾持件的一端突伸至真空彎管件內(nèi)部,液冷管件安裝有連接管件的一端顯露于真空彎管件外,夾持件設(shè)有夾持凹槽,以用于夾持靶材。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種靶材的磁性彎管機(jī)構(gòu),其特征在于:所述連接管件安裝有進(jìn)液嘴和出液嘴,液冷管件設(shè)有進(jìn)液通道、與進(jìn)液通道連通的第一液冷腔、與第一液冷腔連通的第二液冷腔以及與第二液冷腔連通的出液通道,進(jìn)液嘴與進(jìn)液通道連通,出液嘴與出液通道連通,進(jìn)液通道設(shè)置于出液通道內(nèi)部,進(jìn)液通道與出液通道共軸設(shè)置,冷卻液依次流經(jīng)進(jìn)液嘴、進(jìn)液通道、第一液冷腔、第二液冷腔、出液通道和出液嘴,夾持件和液冷管件之間安裝有密封圈。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種靶材的磁性彎管機(jī)構(gòu),其特征在于:所述第一液冷腔由夾持件和液冷管件圍設(shè)而成,夾持凹槽位于夾持件的一側(cè),第一液冷腔位于夾持件的另一側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種靶材的磁性彎管機(jī)構(gòu),其特征在于:所述靶材液冷固定組件還包括絕緣筒件,絕緣筒件圍設(shè)于夾持件和液冷管件外側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種靶材的磁性彎管機(jī)構(gòu),其特征在于:所述引弧組件包括安裝于基座的驅(qū)動(dòng)件、與驅(qū)動(dòng)件輸出端連接的桿件以及設(shè)置于桿件遠(yuǎn)離驅(qū)動(dòng)件的一端的引弧部件,引弧部件包括固定于桿件的支撐端以及與支撐端一體成型的彎折端,驅(qū)動(dòng)件用于驅(qū)使彎折端抵觸靶材或遠(yuǎn)離靶材。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種靶材的磁性彎管機(jī)構(gòu),其特征在于:所述真空彎管件包括弧形管和兩個(gè)直管,兩個(gè)直管分別固定于弧形管的兩端,基座安裝于一直管遠(yuǎn)離弧形管的一端,弧形管和兩個(gè)直管均設(shè)有夾層空腔,弧形管的夾層空腔分別與兩個(gè)直管的夾層空腔相互連通。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種靶材的磁性彎管機(jī)構(gòu),其特征在于:所述弧形管內(nèi)部安裝有擋濾部件,擋濾部件設(shè)有多個(gè)擋板。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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