[發(fā)明專利]顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010690331.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-07-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113946078A | 公開(公告)日: | 2022-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 洪碩廷;陳宏昆;朱庭瑤;高雁綾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 群創(chuàng)光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1345 | 分類號(hào): | G02F1/1345;G02F1/1362;G09F9/33;H01L27/32;H01L27/15 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 駱希聰 |
| 地址: | 中國臺(tái)灣新竹科學(xué)工*** | 國省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
本公開提供一種顯示裝置,包括一第一顯示區(qū)域、一第二顯示區(qū)域、一第一多工器及一第二多工器。該第一顯示區(qū)域包括多條第一數(shù)據(jù)線。該第二顯示區(qū)域鄰近于該第一顯示區(qū)域,并且包括多條第二數(shù)據(jù)線。該第一多工器電性連接該多個(gè)第一數(shù)據(jù)線的其中一者。該第二多工器電性連接該多個(gè)第二數(shù)據(jù)線的其中一者。該多個(gè)第一數(shù)據(jù)線的該其中一者電性連接至一第一數(shù)目的子像素。該多個(gè)第二數(shù)據(jù)線的該其中一者電性連接至一第二數(shù)目的子像素。該第一數(shù)目小于該第二數(shù)目。該第一多工器的尺寸小于該第二多工器的尺寸。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及一種顯示裝置,特別是涉及具備改善顯示裝置內(nèi)多工器的穿通效應(yīng)(feed-through)的顯示裝置。
背景技術(shù)
非矩形(free shape)顯示面板中,在顯示區(qū)內(nèi)不同位置的數(shù)據(jù)線所連接的子像素?cái)?shù)量可能不同,使顯示區(qū)內(nèi)的不同位置的數(shù)據(jù)線(data line)的負(fù)載(RC loading)產(chǎn)生差異。此時(shí)面板內(nèi)部多工器(multiplexer,MUX)的寄生電容會(huì)影響對(duì)應(yīng)子像素的充電,使得子像素?cái)?shù)量較少的數(shù)據(jù)線會(huì)受到較大的穿通效應(yīng)(feed-through),而穿通效應(yīng)的不一致會(huì)影響顯示品質(zhì)。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本公開一實(shí)施例的顯示裝置,包括:一第一顯示區(qū)域、一第二顯示區(qū)域、一第一多工器及一第二多工器。該第一顯示區(qū)域包括多條第一數(shù)據(jù)線。該第二顯示區(qū)域鄰近于該第一顯示區(qū)域,并且包括多條第二數(shù)據(jù)線。該第一多工器電性連接這些第一數(shù)據(jù)線的其中一者。該第二多工器電性連接這些第二數(shù)據(jù)線的其中一者。這些第一數(shù)據(jù)線的該其中一者電性連接至一第一數(shù)目的子像素。這些第二數(shù)據(jù)線的該其中一者分別電性連接至一第二數(shù)目的子像素。該第一數(shù)目小于該第二數(shù)目。且該第一多工器的尺寸小于該第二多工器的尺寸。
附圖說明
為讓本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式作詳細(xì)說明,其中:
圖1為本公開實(shí)施例的顯示裝置的示意圖。
圖2為本公開實(shí)施例的圖1的第一顯示區(qū)域、第二顯示區(qū)域及周邊區(qū)的示意圖。
圖3為本公開另一實(shí)施例的周邊區(qū)的示意圖。
圖4為本公開實(shí)施例中多工器所包括的薄膜晶體管的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5為本公開實(shí)施例多工器所包括的薄膜晶體管的通道寬度示意圖。
圖6A為本公開實(shí)施例的通道寬度調(diào)整前的第一多工器的波形圖。
圖6B為本公開實(shí)施例的第二多工器的波形圖。
100:顯示裝置
101:第一數(shù)據(jù)線
102:第一顯示區(qū)域
103:第二數(shù)據(jù)線
104:第二顯示區(qū)域
106:周邊區(qū)
108:周邊區(qū)
110,112:縱切線
A,A’,A”,B:點(diǎn)
MUXCKH:控制信號(hào)群
202,204,206:薄膜晶體管
208,210,212:數(shù)據(jù)線
214:源極驅(qū)動(dòng)器
216,218,220:子像素
222:掃描線
CKH[1],CKH[2],CKH[3]:控制信號(hào)
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





