[發明專利]近眼顯示設備和光學結構及其晶圓級別的制備方法在審
| 申請號: | 202010675483.0 | 申請日: | 2020-07-14 |
| 公開(公告)號: | CN113933992A | 公開(公告)日: | 2022-01-14 |
| 發明(設計)人: | 向恩來;趙瑜 | 申請(專利權)人: | 寧波舜宇光電信息有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/01 | 分類號: | G02B27/01;G02B6/10;G02B5/18 |
| 代理公司: | 北京唐頌永信知識產權代理有限公司 11755 | 代理人: | 匡霖 |
| 地址: | 315400 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 設備 光學 結構 及其 級別 制備 方法 | ||
1.一種適用于近眼顯示設備的光學結構的晶圓級別的制備方法,其特征在于,包括:
提供一第一波導基片,所述第一波導基片具有按照預設周期排布的多個第一衍射光柵結構和用于定位的多個第一基準點;
基于所述第一基準點和所述第一衍射光柵結構的周期分布規律,在所述第一波導基片的表面上布設黏著劑;以及
提供一第二波導基片,所述第二波導基片具有與所述第一波導基片相同的周期排布的多個第二衍射光柵結構和用于定位的多個第二基準點;
對齊地疊置所述第二波導基片于所述第一波導基片以形成光學結構拼版結構,其中,在所述光學結構拼版結構中,所述第一波導基片與所述第二波導基片具有預設間隙,該間隙的范圍為40μm-60μm,所述第一波導基片的多個第一衍射光柵結構分別對應于所述第二波導基片的多個第二衍射光柵結構;以及
分割所述光學結構拼版結構,以獲得多個適用于近眼顯示設備的光學結構。
2.根據權利要求1所述的晶圓級別的制備方法,其中,所述多個第一基準點中包括用于定位黏著劑布設位置的部分第一基準點;
其中,基于所述第一基準點和所述第一衍射光柵結構的周期分布規律,在所述第一波導基片的表面上布設黏著劑,包括:基于用于定位黏著劑布設位置的所述部分第一基準點和所述第一衍射光柵結構的周期分布規律,在所述第一波導基片的表面上布設黏著劑。
3.根據權利要求2所述的晶圓級別的制備方法,其中,所述多個第一基準點中包括用于定位所述第二波導基片的疊置位置的另一部分第一基準點;
其中,對齊地疊置所述第二波導基片于所述第一波導基片以形成光學結構拼版結構,包括:基于所述另一部分第一基準點與所述第二基準點之間的對齊,疊置所述第二波導基片于所述第一波導基片以形成光學結構拼版結構。
4.根據權利要求3所述的晶圓級別的制備方法,其中,所述另一部分第一基準點沿著所述第一波導基片的周緣均勻地分布。
5.根據權利要求2所述的晶圓級別的制備方法,其中,對齊地疊置所述第二波導基片于所述第一波導基片以形成光學結構拼版結構,包括:
分別通過投影儀投射具有定位圖案的投影圖像于所述第一波導基片的至少三個非位于同一直線上的第一衍射光柵結構,其中,所述投影圖像的部分光自所述第一衍射光柵結構的耦入區域進入所述第一波導基片內并經全內反射后從所述第一衍射光柵結構的耦出區域耦出第一投影圖像至成像裝置;所述投影圖像的另一部分光朝向所述第二波導基片的對應的第二衍射光柵結構方向從所述第一波導基片被耦合出并從所述第二衍射光柵結構的耦入區域進入所述第二波導基片內并經全內反射后從所述第二衍射光柵結構的耦出區域耦出第二投影圖像至所述成像裝置;
分別基于所述第一投影圖像的所述定位圖案和所述第二投影圖像的所述定位圖案之間的偏移量,調整所述第一波導基片和所述第二波導基片之間的相對位置關系;以及
響應于所述偏移量滿足預設閾值范圍,疊置所述第二波導基片于所述第一波導基片。
6.根據權利要求5所述的晶圓級別的制備方法,其中,至少三個非位于同一直線上的第一衍射光柵結構相對于所述第一波導基片設定的中心沿著所述第一波導基片設定的周向均勻地分布。
7.根據權利要求2所述的晶圓級別的制備方法,其中,分割所述光學結構拼版結構,以獲得多個適用于近眼顯示設備的光學結構,包括:沿著用于定位黏著劑布設位置的所述部分第一基準點所設定的參考線分割所述光學結構拼版結構。
8.根據權利要求7所述的晶圓級別的制備方法,其中,用于定位黏著劑布設位置的所述部分第一基準點所設定的參考線位于所述黏著劑的內邊緣與外邊緣之間。
9.根據權利要求7所述的晶圓級別的制備方法,其中,用于定位黏著劑布設位置的所述部分第一基準點所設定的參考線位于所述黏著劑的外邊緣的外側。
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