[發明專利]用于大尺寸電極的自動研磨裝備在審
| 申請號: | 202010674711.2 | 申請日: | 2020-07-14 |
| 公開(公告)號: | CN111791142A | 公開(公告)日: | 2020-10-20 |
| 發明(設計)人: | 金衛明;宋微;朱傳兵;亓露 | 申請(專利權)人: | 蕪湖通潮精密機械股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/00 | 分類號: | B24B37/00;B24B41/02;B24B45/00 |
| 代理公司: | 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107 | 代理人: | 吳慧 |
| 地址: | 241000 安徽省蕪*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 尺寸 電極 自動 研磨 裝備 | ||
本發明公開了一種用于大尺寸電極的自動研磨裝備,包括研磨加工臺、X軸橫梁、Y軸橫梁和Z軸研磨機構,X軸橫梁設置在研磨加工臺的左右兩邊,Y軸橫梁滑動連接在X軸橫梁上,Z軸研磨機構滑動連接在Y軸橫梁上。研磨加工臺上設有擋水板,擋水板連接在研磨加工臺的框架上。框架包括前框架和后框架,前框架與后框架通過平衡塊連接在一起。平衡塊包括主平衡塊和副平衡塊,主平衡塊焊接在前框架上,副平衡塊焊接在后框架上,主平衡塊與副平衡塊通過并聯螺栓連接在一起,主平衡塊上還設有用于調節平行度的水平調節孔,水平調節孔內設有水平調整螺栓,可以起到調整平行度作用同時也能更好的把兩個框架在后期工作過程中的震動吸能,使整體結構更穩定。
技術領域
本發明屬于電極研磨技術領域,具體涉及一種用于大尺寸電極的自動研磨裝備。
背景技術
CVD設備、Dry Etch設備,內部核心電極部件研磨、拋光一直是液晶面板顯示行業的難點,其中核心零件表面粗糙度、鏡面度、平坦度,對Glass氣象沉積的范圍、均勻度、使用壽命,等有很大的影響,其中有一款比較特殊的產品(Susceptor見圖示7),此產品背部帶一根Shaft,導致整體高度達到1.2~1.8米這對研磨固定臺面要求比較高,并且在人工作業過程中很不方便。
為提高我公司產品附價值,尋求新的效益增長點,解決實際難題,在依托面板廠家,組織技術人員分組實驗做相關分析實驗,在取得大量技術參數的基礎上,選擇最優化的相關數據方案得出結論定義。需要在此核心部件生產過程中專門定制一款滿足可以研磨CVD Chamber、Dry Etch Chamber設備核心零部件的大尺寸電極自動研磨裝備,為了節約開發成本要求該項目大尺寸電極自動研磨裝備需要滿足兩種核心設備零部件不同工藝的標準來執行研磨,并且通用所有大尺寸高世代線的核心產品研磨制造,達到增加生產效率、提高品質、降低成本等技術需求。
發明內容
針對現有技術中存在的不足,本發明的目的在于提供一種用于大尺寸電極的自動研磨裝備。
為實現上述目的,本發明的技術方案為:一種用于大尺寸電極的自動研磨裝備,其特征在于:包括研磨加工臺、X軸橫梁、Y軸橫梁和Z軸研磨機構,所述X軸橫梁設置在研磨加工臺的左右兩邊,Y軸橫梁橫跨研磨加工臺滑動連接在X軸橫梁上,Z軸研磨機構滑動連接在Y軸橫梁上。
進一步的,所述研磨加工臺上與X軸橫梁相鄰的兩條邊上設有擋水板,擋水板與研磨加工臺連接的一側設有卡扣,卡扣上設有安裝孔,擋水板通過緊固件與卡扣上的安裝孔配合連接在研磨加工臺的框架上。
進一步的,所述研磨加工臺包括框架和工作臺面,工作臺面安裝在框架的上端,框架的下端固定連接在地面上,框架與工作臺面之間為焊接一體精加工成型,在工作臺面的四周設有溢流槽。
進一步的,所述工作臺面上設有水平墊塊和中心墊塊,中心墊塊位于工作臺面的中心,水平墊塊布滿工作臺面,水平墊塊上設有通孔,中心墊塊上設有中心孔,在中心孔的四周設有溢流槽。
進一步的,所述框架為前后對中拆分結構,框架包括前框架和后框架,前框架與后框架通過平衡塊連接在一起。
進一步的,所述平衡塊包括主平衡塊和副平衡塊,主平衡塊焊接在前框架上,副平衡塊焊接在后框架上,主平衡塊與副平衡塊通過并聯螺栓連接在一起,主平衡塊上還設有用于調節平行度的水平調節孔,水平調節孔內設有水平調整螺栓。
進一步的,所述X軸橫梁上設有導軌和連接板,導軌Ⅰ設置在X軸橫梁的上端面,連接板滑動連接在導軌上,X軸橫梁的下端通過工字鋼連接在研磨加工臺上。
進一步的,所述Y軸橫梁的端部連接在X軸橫梁的連接板上,Y軸橫梁包括齒條固定梁、導軌固定梁、齒條、導軌Ⅱ、電機安裝座和用于驅動Y軸橫梁沿X軸橫梁運動的電機,電機安裝在電機安裝座上,齒條安裝在齒條固定梁上,齒條與電機的輸出軸連接,導軌Ⅱ安裝在導軌固定梁上,Z軸研磨結構滑動連接在導軌Ⅱ上。
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