[發明專利]偏振復用的相位損傷評估方法及裝置有效
| 申請號: | 202010670431.4 | 申請日: | 2020-07-13 |
| 公開(公告)號: | CN111865453B | 公開(公告)日: | 2022-07-08 |
| 發明(設計)人: | 李斌;楊柳;李竹青 | 申請(專利權)人: | 武漢光盈科技有限公司 |
| 主分類號: | H04B17/309 | 分類號: | H04B17/309;H04B17/382;H04B17/391 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 郭亮 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市東湖新技術開發*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 偏振 相位 損傷 評估 方法 裝置 | ||
1.一種偏振復用的相位損傷評估方法,其特征在于,包括:
根據基礎相位噪聲模型的方差、光纖傳輸距離和偏振串擾強度,確定偏振串擾相位噪聲模型的方差;
所述根據基礎相位噪聲模型的方差、光纖傳輸距離和偏振串擾強度,確定偏振串擾相位噪聲模型的方差,包括:
σP2=Lr×Xr×σL2;
其中,Lr和Xr分別為光纖傳輸距離和偏振串擾強度,σL2為基礎相位噪聲模型的方差,σP2為偏振串擾相位噪聲模型的方差;
根據基礎相位噪聲模型的方差和偏振串擾相位噪聲模型的方差,確定綜合相位噪聲模型的協方差,以得到綜合相位噪聲模型,用于相位損傷評估;
所述根據基礎相位噪聲模型的方差和偏振串擾相位噪聲模型的方差,確定綜合相位噪聲模型的協方差,包括:
其中,σL2為基礎相位噪聲模型的方差,σP2為偏振串擾相位噪聲模型的方差,σ2為綜合相位噪聲模型的協方差;
其中,所述基礎相位噪聲為偏振復用以外的噪聲。
2.根據權利要求1所述的偏振復用的相位損傷評估方法,其特征在于,所述確定綜合相位噪聲模型的協方差之前,還包括:
根據激光器的線寬和發送信號的采樣時間間隔,確定基礎相位噪聲模型的方差。
3.根據權利要求2所述的偏振復用的相位損傷評估方法,其特征在于,所述根據激光器的線寬和發送信號的采樣時間間隔,確定基礎相位噪聲模型的方差,包括:
σL2=2πΔvdt;
其中,Δv為激光器的線寬,dt為發送信號的采樣時間間隔,σL2為基礎相位噪聲模型的方差。
4.根據權利要求1所述的偏振復用的相位損傷評估方法,其特征在于,所述綜合相位噪聲模型,具體為:
N為高斯分布;
其中,σ2為綜合相位噪聲模型的協方差。
5.根據權利要求1所述的偏振復用的相位損傷評估方法,其特征在于,得到綜合相位噪聲模型之后,包括:
根據所述綜合相位噪聲模型,確定每個偏振模式的相位噪聲損傷值。
6.一種偏振復用的相位損傷評估裝置,其特征在于,包括:
偏振串擾相位噪聲確定模塊,用于根據基礎相位噪聲模型的方差、光纖傳輸距離和偏振串擾強度,確定偏振串擾相位噪聲模型的方差;
所述根據基礎相位噪聲模型的方差、光纖傳輸距離和偏振串擾強度,確定偏振串擾相位噪聲模型的方差,包括:
σP2=Lr×Xr×σL2;
其中,Lr和Xr分別為光纖傳輸距離和偏振串擾強度,σL2為基礎相位噪聲模型的方差,σP2為偏振串擾相位噪聲模型的方差
綜合相位噪聲模型構建模塊,用于根據基礎相位噪聲模型的方差和偏振串擾相位噪聲模型的方差,確定綜合相位噪聲模型的協方差,以得到綜合相位噪聲模型,用于相位損傷評估;
所述根據基礎相位噪聲模型的方差和偏振串擾相位噪聲模型的方差,確定綜合相位噪聲模型的協方差,包括:
其中,σL2為基礎相位噪聲模型的方差,σP2為偏振串擾相位噪聲模型的方差,σ2為綜合相位噪聲模型的協方差;
其中,所述基礎相位噪聲為偏振復用以外的噪聲。
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