[發明專利]磁控濺射鐵磁性靶材的裝置

有效

• 申請號: 202010661505.8
• 申請日: 2020-07-10
• 公開（公告）號: CN111996505B
• 公開（公告）日: 2023-07-14
• 發明（設計）人: 郝宏波;王婷婷;喬禹;梁雨萍;辛博;田若楠;張茂彩;王譽
• 申請（專利權）人: 包頭稀土研究院;瑞科稀土冶金及功能材料國家工程研究中心有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京康盛知識產權代理有限公司 11331
• 代理人: 張良

1.一種磁控濺射鐵磁性靶材的裝置，包括：陰極基座、周邊永磁體、中心永磁體，周邊永磁體、中心永磁體位于陰極基座的下部，周邊永磁體位于中心永磁體外側，其特征在于，還包括：耐高溫絕緣保護罩、中心永磁柱、環狀磁性靶材，陰極基座、周邊永磁體、中心永磁體、耐高溫絕緣保護罩、環狀磁性靶材位于屏蔽罩中，環狀磁性靶材利用固定圈固定在陰極基座上；耐高溫絕緣保護罩、中心永磁柱、環狀磁性靶材位于陰極基座上部，中心永磁柱位于耐高溫絕緣保護罩內部，耐高溫絕緣保護罩位于環狀磁性靶材內側，中心永磁柱與耐高溫絕緣保護罩留有間隙，耐高溫絕緣保護罩的外側面與環狀磁性靶材的內側面相貼合；中心永磁柱與中心永磁體的磁極方向相同，中心永磁柱的下表面與陰極基座的上表面依靠磁體產生的引力貼合在一起，中心永磁柱位于陰極基座的幾何中心；環狀磁性靶材的下表面與陰極基座的上表面依靠磁體產生的引力貼合在一起，環狀磁性靶材位于陰極基座的幾何中心處；耐高溫絕緣保護罩位于陰極基座的幾何中心處，下表面與陰極基座上表面貼合在一起；環狀磁性靶材表面磁感應強度水平分量為0.02-0.10T之間。

2.如權利要求1所述的磁控濺射鐵磁性靶材的裝置，其特征在于，環狀磁性靶材為鐵磁性或亞鐵磁性的靶材。

3.如權利要求1所述的磁控濺射鐵磁性靶材的裝置，其特征在于，耐高溫絕緣保護罩采用不導磁、絕緣、耐高溫材料。