[發明專利]用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物

在審

• 申請號: 202010660584.0
• 申請日: 2020-07-10
• 公開（公告）號: CN112210301A
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發明（設計）人: 金智慧;崔輔爀;李在祐;李在益
• 申請（專利權）人: 凱斯科技股份有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L21/306;H01L21/3105
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 翟羽

1.一種用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：包括：

拋光粒子；

表面粗糙度改進劑，包括水溶性聚合物；

拋光調節劑，包括有機酸；以及

拋光輪廓改進劑，包括非離子表面活性劑。

2.根據權利要求1所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：其還包括：缺陷改進劑，所述缺陷改進劑包括陰離子表面活性劑。

3.根據權利要求2所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述陰離子表面活性劑包括選自于由聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚苯乙烯-丙烯酸共聚物、丙烯酸-馬來酸共聚物、丙烯酸-乙烯共聚物、丙烯酸-丙烯酰胺共聚物及丙烯酸-聚丙烯酰胺共聚物所組成的群組中的至少任一個。

4.根據權利要求2所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述缺陷改進劑在所述用于拋光化學機械拋光漿料組合物中占0.005重量百分比至0.1重量百分比。

5.根據權利要求1所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述拋光粒子包括選自于由金屬氧化物、經有機物或無機物涂覆的金屬氧化物及處于膠體狀態的所述金屬氧化物所組成的群組中的至少任一個，所述金屬氧化物包括選自于由二氧化硅、二氧化鈰、氧化鋯、氧化鋁、二氧化鈦、鋇二氧化鈦、氧化鍺、氧化錳及氧化鎂所組成的群組中的至少任一個。

6.根據權利要求1所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述拋光粒子通過液相法來制備，并進行分散使得所述拋光粒子的表面具有負電荷。

7.根據權利要求1所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述拋光粒子的粒徑為10納米至200納米。

8.根據權利要求1所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述拋光粒子在所述用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物中占0.1重量百分比至10重量百分比。

9.根據權利要求1所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述水溶性聚合物的重量平均分子量為10000至1000000。

10.根據權利要求1所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述水溶性聚合物包括選自于由羥乙基纖維素、羥甲基纖維素、羥丙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、羧甲基纖維素、甲基纖維素、甲基羥乙基纖維素、殼聚糖、明膠、黃原膠、膠原蛋白、卡拉膠、氟烷、果膠、硫酸軟骨素、海藻酸、右旋糖酐、β-葡聚糖及透明質酸所組成的群組中的至少任一個。

11.根據權利要求1所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述表面粗糙度改進劑在所述用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物中占0.0005重量百分比至0.5重量百分比。

12.根據權利要求1所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述有機酸包括選自于由琥珀酸、蘋果酸、丙二酸、己二酸、酒石酸、戊二酸、羥基乙酸、天冬氨酸、衣康酸、丙三羧酸、庚二酸、辛二酸、癸二酸、硬脂酸、丙酮酸、乙酰乙酸、乙醛酸、壬二酸、延胡索酸、戊烯二酸、創傷酸、粘康酸、烏頭酸、丙三酸、三元酸、苯六甲酸、異檸檬酸、檸檬酸、乳酸、葡萄糖酸、馬來酸、抗壞血酸、亞氨乙酸、草酸、焦性沒食子酸、甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、十一酸、月桂酸、十三酸、肉豆蔻酸、十五酸及棕櫚酸所組成的群組中的至少任一個。

13.根據權利要求1所述的用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物，其特征在于：所述拋光調節劑在所述用于拋光多層膜的化學機械拋光漿料組合物中占0.01重量百分比至1重量百分比。