[發(fā)明專利]一種風(fēng)電葉片后緣間隙模擬方法、系統(tǒng)、設(shè)備及存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010655758.4 | 申請日： | 2020-07-09 |
| 公開（公告）號： | CN111914359B | 公開（公告）日： | 2022-09-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王振剛;蔣傳鴻;張石強;馬金濤;汪建;唐雪 | 申請（專利權(quán)）人： | 吉林重通成飛新材料股份公司 |
| 主分類號： | G06F30/17 | 分類號： | G06F30/17;G06F30/20;G06F113/06 |
| 代理公司： | 重慶智慧之源知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 50234 | 代理人： | 余洪 |
| 地址： | 131300 *** | 國省代碼： | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 葉片 后緣 間隙 模擬 方法 系統(tǒng) 設(shè)備 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種風(fēng)電葉片后緣間隙模擬方法，其特征在于，包括：接收風(fēng)電葉片的三維外形，基于所述三維外形，截取多個間距相同的平行于葉根端面的截面；
基于多個所述截面，從預(yù)知的后緣分模線開始分別沿著PS面和SS面方向各自截取多個均勻分布的點，并獲取所述多個點的二維坐標；
根據(jù)預(yù)設(shè)的鋪層信息以及布層厚度信息，對所述多個點的二維坐標按法向偏移變換公式進行變換，得到所述多個點變換過后的目標二維坐標，并根據(jù)所述目標二維坐標得到目標后緣截面鋪層圖；
其中，在以SS面和PS面后緣分模線為起點，等距離在兩個截面輪廓上截取N個點時，分別選取SS面上兩點Ai-1(SSxi-1,SSyi-1)和Ai(SSxi,SSyi)，PS面上兩點Bi-1(PSxi-1,PSyi-1)和Bi(PSxi,PSyi)，則法向偏移變換公式為：
式中，
其中，T為風(fēng)電葉片鋪層單層設(shè)計厚度，θ為兩點之間連線和水平軸之間的夾角；
對所述目標后緣截面鋪層圖進行測量，得到目標后緣間隙。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)預(yù)設(shè)的鋪層信息以及布層厚度信息，對所述多個點的二維坐標按法向偏移變換公式進行變換，得到所述多個點變換過后的目標二維坐標，并根據(jù)所述目標二維坐標得到目標后緣截面鋪層圖，具體為：根據(jù)預(yù)設(shè)的鋪層信息以及布層厚度信息，對所述多個點的二維坐標按法向偏移變換公式進行變換，得到所述多個點變換后的目標二維坐標；
根據(jù)所述多個點變換后的目標二維坐標得到多個目標截面；
根據(jù)所述多個目標截面得到目標后緣截面鋪層圖。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述目標后緣截面鋪層圖進行測量，得到目標后緣間隙之后，還包括：判斷所述目標后緣間隙是否符合預(yù)設(shè)值；
若不符合所述預(yù)設(shè)值時，則對所述預(yù)設(shè)的鋪層信息進行優(yōu)化，直至對應(yīng)得到的優(yōu)化后的目標后緣間隙符合預(yù)設(shè)值為止；
若符合所述預(yù)設(shè)值時，根據(jù)預(yù)設(shè)的所述鋪層信息，對所述風(fēng)電葉片進行加工制造，得到目標風(fēng)電葉片。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述若不符合所述預(yù)設(shè)值時，則對所述預(yù)設(shè)的鋪層信息進行優(yōu)化，直至對應(yīng)得到的優(yōu)化后的目標后緣間隙符合預(yù)設(shè)值為止之后，還包括：獲取優(yōu)化后的目標鋪層信息；
根據(jù)所述目標鋪層信息，對所述風(fēng)電葉片進行加工制造，得到目標風(fēng)電葉片。
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