[發明專利]曝光裝置及曝光方法、以及平面顯示器制造方法

在審

• 申請號: 202010655164.3
• 申請日: 2016-09-29
• 公開（公告）號: CN111812949A
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 白戶章仁;澀谷敬
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 葉明川;單曉雙

1.一種曝光裝置，透過投影光學系以照明光使基板曝光，其具備：

移動體，配置于所述投影光學系的下方，保持所述基板；

驅動系，能在與所述投影光學系的光軸正交的既定平面內在彼此正交的第1方向、第2方向上移動所述移動體；

測量系，設置成在所述第1方向上多個格子區域彼此分離配置的格子構件、與對所述格子構件分別照射測量光束且能在所述第2方向上移動的多個第1讀頭中的一方設于所述移動體，且所述格子構件與所述多個第1讀頭中的另一方與所述移動體相向，所述測量系具有測量在所述第2方向的所述多個第1讀頭的位置信息的測量裝置，根據所述多個第1讀頭中所述測量光束照射于所述多個格子區域中的至少一個格子區域的至少三個第1讀頭的測量信息與所述測量裝置的測量信息，測量至少在所述既定平面內的3自由度方向的所述移動體的位置信息；以及

控制系，根據用以補償因所述格子構件、所述多個第1讀頭及所述移動體的移動的至少一個而產生的所述測量系的測量誤差的修正信息、以及以所述測量系測量的位置信息，控制所述驅動系；

所述多個第1讀頭，分別在所述移動體往所述第1方向的移動中，所述測量光束從所述多個格子區域中的一個格子區域脫離且移至與所述一個格子區域相鄰的另一格子區域。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其中，所述修正信息補償因所述多個格子區域中的至少一個格子區域的變形、位移、平坦性、以及形成誤差的至少一個而產生的所述測量系的測量誤差。

3.如權利要求1或2所述的曝光裝置，其中，所述修正信息補償因所述多個第1讀頭中的至少一個第1讀頭的光學特性、及在與所述第2方向不同的方向的位移的至少一方而產生的所述測量系的測量誤差。

4.如權利要求1～3中任一項所述的曝光裝置，其中，所述多個第1讀頭分別以在所述既定平面內彼此交叉的兩方向中的一方作為測量方向；

所述修正信息補償因在與所述測量方向不同的方向的所述第1讀頭與所述格子構件的相對運動而產生的在所述測量方向的所述測量系的測量誤差。

5.如權利要求4所述的曝光裝置，其中，所述不同的方向，包含與所述既定平面正交的第3方向、繞與所述既定平面正交的軸的旋轉方向、以及繞與所述既定平面平行的軸的旋轉方向的至少一個。

6.如權利要求4或5所述的曝光裝置，其中，所述多個第1讀頭的所述測量方向分別與所述第1方向、第2方向不同；

所述不同的方向包含所述第1方向、第2方向的至少一方。

7.如權利要求1～6中任一項所述的曝光裝置，其中，所述修正信息補償因用于所述移動體的位置控制的基準面、或在所述基板的曝光動作中所述基板一致的基準面與所述格子部的格子面的、在與所述既定平面正交的第3方向的位置之差而產生的所述測量系的測量誤差。

8.如權利要求7所述的曝光裝置，其中，所述基準面包含所述投影光學系的像面。

9.如權利要求1～8中任一項所述的曝光裝置，其中，所述曝光裝置進一步具備支承所述投影光學系的框架構件；

所述測量裝置，具有設于所述多個第1讀頭與所述投影光學系或所述框架構件中的一方的標尺構件、以及設于所述多個第1讀頭與所述投影光學系或所述框架構件中的另一方的第2讀頭，透過所述第2讀頭對所述標尺構件照射測量光束，測量在所述第2方向的所述多個第1讀頭的位置信息。

10.如權利要求9所述的曝光裝置，其中，所述修正信息，包含用以補償因所述標尺構件與所述第2讀頭的至少一方而產生的所述測量裝置的測量誤差的修正信息。