[發明專利]一種獨立基礎不均勻沉降自調節結構及使用方法在審
| 申請號: | 202010654830.1 | 申請日: | 2020-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN111622253A | 公開(公告)日: | 2020-09-04 |
| 發明(設計)人: | 汪俊虎;張凡;高原;李念斌;陳默然;易金剛 | 申請(專利權)人: | 中國電建集團貴州電力設計研究院有限公司 |
| 主分類號: | E02D27/00 | 分類號: | E02D27/00;E02D31/00;E02D35/00 |
| 代理公司: | 貴陽中新專利商標事務所 52100 | 代理人: | 張彪 |
| 地址: | 550000 貴州省貴陽*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 獨立 基礎 不均勻 沉降 調節 結構 使用方法 | ||
1.一種獨立基礎不均勻沉降自調節結構,包括:本體(1),所述本體(1)包括2個以上;其特征在于,還包括:
護筒(3),所述護筒(3)與本體(1)數量相同,每個護筒(3)下底面都位于同一個水平面,護筒(3)上部開有滑孔(301),滑孔(301)與本體(1)下端相匹配,本體(1)通過滑孔(301)上下滑動連接在護筒(3)上;
膨脹巖(4),所述膨脹巖(4)設置在滑孔(301)內,膨脹巖(4)位于滑孔(301)底部與本體(1)下端面之間;
第一導水孔(302),所述第一導水孔(302)開設在護筒(3)側壁;
第二導水孔(102),所述第二導水孔(102)開設在本體(1)上,第二導水孔(102)上端開設在本體(1)側壁,膨脹巖(4)未膨脹時第二導水孔(102)上端與第一導水孔(302)連通,膨脹巖(4)膨脹后第二導水孔(102)上端與第一導水孔(302)不連通,第二導水孔(102)下端開設在本體(1)下端面,第二導水孔(102)的最高點高度大于第一導水孔(302)位于護筒(3)外側的端部;
平衡水管(8),所述平衡水管(8)為硬直管,平衡水管(8)內裝滿了水,平衡水管(8)兩端分別連通兩個不同護筒(3)上的第一導水孔(302)。
2.根據權利要求1所述的獨立基礎不均勻沉降自調節結構,其特征在于,所述本體(1)表面和護筒(3)表面涂有一層防水薄膜。
3.根據權利要求1所述的獨立基礎不均勻沉降自調節結構,其特征在于,還包括:
第一墊層(6),第一墊層(6)設置在膨脹巖(4)與本體(1)下端面之間,第一墊層(6)為素砼材質,第一墊層(6)上開有第三導水孔(601),第三導水孔(601)上端與第二導水孔(102)下端連通,第三導水孔(601)下端開設在第一墊層(6)下端面。
4.根據權利要求3所述的獨立基礎不均勻沉降自調節結構,其特征在于,所述膨脹巖(4)為柱形,膨脹巖(4)包括1根以上,膨脹巖(4)之間留有空隙,膨脹巖(4)上端面與第一墊層(6)下表面接觸,膨脹巖(4)下端面與滑孔(301)底面接觸。
5.根據權利要求4所述的獨立基礎不均勻沉降自調節結構,其特征在于,所述空隙中填充海綿(5)。
6.根據權利要求1至5中任意一項所述的獨立基礎不均勻沉降自調節結構,其特征在于,還包括:
第二墊層(7),所述第二墊層(7)固定連接在護筒(3)的下底面。
7.根據權利要求1至5中任意一項所述的獨立基礎不均勻沉降自調節結構,其特征在于,還包括:
擋板(103),所述擋板(103)固定連接在本體(1)側部,膨脹巖(4)未膨脹時擋板(103)下表面高于護筒(3)上表面,擋板(103)在護筒(3)上表面的投影將本體(1)與滑孔(301)接觸的邊緣覆蓋。
8.根據權利要求7所述的獨立基礎不均勻沉降自調節結構,其特征在于,還包括:
遮板(101),所述遮板(101)固定連接在擋板(103)上,遮板(101)與擋板(103)圍成一個形狀與護筒(3)相匹配槽,槽的深度大于膨脹巖(4)吸水后豎直方向伸長的最大長度。
9.一種權利要求5所述的獨立基礎不均勻沉降自調節結構的使用方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:
S1、將兩個護筒(3)的第一導水孔(302)外側端部調節到同一水平面;
S2、將平衡水管(8)灌滿水;
S3、將平衡水管(8)兩端分別密封連接在兩個護筒(3)的第一導水孔(302)外側端部;
S4、將膨脹巖(4)安裝在滑孔(301)內的滑孔(301)底面上,并在膨脹巖(4)之間填充海綿(5);
S5、將第一墊層(6)安裝在滑孔(301)內的膨脹巖(4)上部;
S6、將本體(1)安裝在第一墊層(6)上部的滑孔(301)內。
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