[發(fā)明專利]塵埃堆積探測裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010650836.1
• 申請日: 2020-07-08
• 公開（公告）號: CN112213241A
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發(fā)明（設計）人: 千林曉;福永哲也;中村匠汰
• 申請（專利權）人: 日新電機株式會社
• 主分類號: G01N15/04
• 分類號: G01N15/04;G01N21/01;G01N21/59;G01N21/55;G01N21/47
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 楊文娟;臧建明

1.一種塵埃堆積探測裝置，其特征在于，包括：

反射構件，具有兩個反射面，剖面為L字型；

發(fā)光部件，朝所述反射構件照射光；

光探測部件，探測由所述反射構件所反射的光；以及

評估部件，在從所述發(fā)光部件朝所述反射構件照射了光的狀態(tài)下，對應于由所述光探測部件所探測的光的強度與所述發(fā)光部件的照射光的強度的比率，對所述反射構件中的塵埃堆積的程度進行評估；

所述發(fā)光部件配置在比所述兩個反射面中的鉛垂面的上端高的位置，

所述發(fā)光部件及所述光探測部件配置為從所述發(fā)光部件照射的光由所述兩個反射面依次反射后，通過所述光探測部件進行探測。

2.根據權利要求1所述的塵埃堆積探測裝置，其特征在于，

從所述發(fā)光部件照射的光由所述兩個反射面依次反射后，至通過所述光探測部件進行探測為止所穿過的光路長度為30mm以下。

3.根據權利要求1或2所述的塵埃堆積探測裝置，其特征在于，

從所述發(fā)光部件朝所述反射構件照射的光與所述兩個反射面中的水平面形成的角度為30度以上、45度以下的范圍。

4.一種塵埃堆積探測裝置，其特征在于，包括：

發(fā)光部件，朝機器的規(guī)定部分的面照射光；

光探測部件，探測透過了所述規(guī)定部分的光或由所述規(guī)定部分所反射的光；

評估部件，在從所述發(fā)光部件朝所述規(guī)定部分照射了光的狀態(tài)下，對應于由所述光探測部件所探測的光的強度與所述發(fā)光部件的照射光的強度的比率，對所述規(guī)定部分中的塵埃堆積的程度進行評估；以及

調整部件，調整所述發(fā)光部件照射的光量及所述光探測部件的輸出值的至少一者；

所述調整部件在塵埃已堆積在所述規(guī)定部分的狀態(tài)下通過所述光探測部件探測光的強度之前，以在塵埃未堆積在所述規(guī)定部分的狀態(tài)下所述光探測部件的輸出值變成規(guī)定值的方式進行調整。

5.一種塵埃堆積探測裝置，其特征在于，包括：

發(fā)光部件，朝機器的規(guī)定部分的面照射光；

光探測部件，探測透過了所述規(guī)定部分的光或由所述規(guī)定部分所反射的光；

溫度探測部件，探測所述發(fā)光部件及所述光探測部件的周圍的溫度；

校正部件，對由所述光探測部件所探測的光的強度進行校正；以及

評估部件，對所述規(guī)定部分中的塵埃堆積的程度進行評估；

由所述溫度探測部件所探測的溫度為T，所述校正部件在從所述發(fā)光部件朝所述規(guī)定部分照射了光的狀態(tài)下，使用表示由所述光探測部件所探測的光的強度的V(T)、規(guī)定溫度T1、及常數K，通過V(T1)＝V(T)×(1－(T－T1)/K)來算出換算值V(T1)，

所述評估部件對應于所述換算值與所述發(fā)光部件的照射光的強度的比率，對所述規(guī)定部分中的塵埃堆積的程度進行評估。