[發明專利]一種高真空高溫運行裝置上窗口法蘭的局部冷卻結構在審
| 申請號： | 202010650769.3 | 申請日： | 2020-07-08 |
| 公開（公告）號： | CN113915809A | 公開（公告）日： | 2022-01-11 |
| 發明（設計）人： | 石中兵;蔣敏;傅炳忠;鐘武律;聞杰;楊曾辰;方凱銳 | 申請（專利權）人： | 核工業西南物理研究院 |
| 主分類號： | F25D1/00 | 分類號： | F25D1/00;F25D1/02;F16J15/10 |
| 代理公司： | 核工業專利中心 11007 | 代理人： | 劉昕宇 |
| 地址： | 610041 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空 高溫 運行 裝置 窗口 法蘭 局部 冷卻 結構 | ||
1.一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：包括內密封結構(1)，內密封結構(1)的內壁為內密封面(2)，內密封面(2)的形狀與內部零件的形狀相匹配，在內密封結構(1)上方端面設置外密封結構體(4)，外密封結構體(4)下方與內密封結構(1)固定連接，外密封結構體(4)的下端形成外密封面(9)，外密封結構體(4)上方設置外密封壓盤(13)，外密封結構體(4)與外密封壓盤(13)之間設置診斷窗口(10)。
2.如權利要求1所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：外密封結構體(4)與內密封結構(1)的連接面形成空腔，該空腔為冷卻通道(5)，冷卻通道(5)通過外置進出冷卻管道(7)與外部連通，外置進出冷卻管道(7)與外密封結構體(4)固定連接。
3.如權利要求2所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：所述的內密封結構(1)和外密封結構體(4)通過第一超高真空密封焊(3)固定連接。
4.如權利要求3所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：所述的外置進出冷卻管道(7)與外密封結構體(4)通過第二超高真空密封焊(6)固定連接。
5.如權利要求4所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：外密封結構體(4)上設置內密封螺釘孔(12)，通過設置在內密封螺釘孔(12)內的螺釘，將外密封結構體(4)固定與法蘭刀口面連接。
6.如權利要求5所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：外密封結構體(4)和外密封壓盤(13)上設置位置匹配的螺釘孔，兩個位置匹配后形成外密封螺釘孔(11)，通過設置在外密封螺釘孔(11)中的螺釘將外密封結構體(4)和外密封壓盤(13)固定連接。
7.如權利要求6所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：所述的冷卻通道(5)沿外密封結構體(4)的外密封面(9)布置滿一周以上。
8.如權利要求7所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：所述的外密封結構體(4)與診斷窗口(10)之間還設置冷卻密封圈(8)。
9.如權利要求8所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：第一超高真空密封焊3和第二超高真空密封焊6的真空漏率小于1.0×10-10Pam3/sec。
10.如權利要求9所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：內密封面(2)為高真空臺階密封結構或刀口密封結構，該密封結構與裝置的真空法蘭結構匹配，所述外密封面(9)為高光潔度密封面。
11.如權利要求10所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：所述冷卻通道(5)為水冷通道或氣冷通道。
12.如權利要求11所述的一種高真空高溫烘烤運行裝置上法蘭的局域冷卻結構，其特征在于：在外密封結構體(4)中設置波紋管，該波紋管將外密封結構體(4)分為內外兩部分。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于核工業西南物理研究院，未經核工業西南物理研究院許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010650769.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種新型水培種植架
- 下一篇：定位方法、裝置、電子設備和計算機可讀存儲介質
