[發明專利]光學調制器和光學測量設備在審
| 申請號: | 202010645791.9 | 申請日: | 2020-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN112213897A | 公開(公告)日: | 2021-01-12 |
| 發明(設計)人: | 藤井康祐 | 申請(專利權)人: | 住友電氣工業株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/21 | 分類號: | G02F1/21;G02F1/225;G02B1/11;G01M11/02 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 李蘭;孫志湧 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 調制器 測量 設備 | ||
1.一種光學調制器,包括:
基板,所述基板具有第一面和第二面;
輸入端口,所述輸入端口設置在所述第一面上;
第一波導,所述第一波導設置在所述基板上,所述第一波導連接到所述輸入端口;
第一耦合器,所述第一耦合器設置在所述基板上,所述第一耦合器與所述第一波導光學地連接;
輸出端口,所述輸出端口設置在所述基板的所述第一面上,所述輸出端口與所述第一耦合器光學地連接;以及
第一抗反射涂層,所述第一抗反射涂層設置在所述第二面上,
其中,
所述第一面和所述第二面沿第一方向布置,
所述第一面和所述第二面在與所述第一方向相交的方向上延伸,以及
所述第一耦合器在所述第一方向上延伸。
2.根據權利要求1所述的光學調制器,其中,
所述第一面和所述第二面彼此相對。
3.根據權利要求1或2所述的光學調制器,進一步包括:
馬赫曾德爾型光學調制器,所述馬赫曾德爾型光學調制器包括第二耦合器和第二波導,
其中,
所述馬赫曾德爾型光學調制器光學地連接在所述輸入端口和所述輸出端口之間,以及
所述第二耦合器在所述第一方向上延伸。
4.根據權利要求3所述的光學調制器,其中,
所述第二波導包括一對直的部分和彎曲的部分,
所述直的部分在所述第一方向上延伸,以及
所述彎曲的部分光學地連接所述直的部分。
5.根據權利要求1至4中的一項所述的光學調制器,進一步包括第二抗反射涂層,所述第二抗反射涂層設置在所述基板的第三面上,所述第三面在所述第一方向上延伸。
6.一種光學測量設備,包括:
根據權利要求1至5中的任一項所述的光學調制器;
光纖陣列,所述光纖陣列包括支撐體、單模光纖和多模光纖;
光源;以及
檢測器,
其中,
所述單模光纖和所述多模光纖布置在所述支撐體上,
所述多模光纖的芯直徑大于所述單模光纖的芯直徑,以及
所述多模光纖具有與所述光學調制器的所述第一面相對的端面。
7.根據權利要求6所述的光學測量設備,其中,所述多模光纖的所述芯直徑大于50μm并且小于600μm。
8.根據權利要求6或7所述的光學測量設備,其中,
所述多模光纖的所述端面被布置為離開所述光學調制器的所述第一面的距離為50μm或更大,且0.5mm或更小。
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