[發明專利]孿生負載中頻交流PECVD沉積DLC涂層的方法在審
| 申請號： | 202010645618.9 | 申請日： | 2018-01-23 |
| 公開（公告）號： | CN111593321A | 公開（公告）日： | 2020-08-28 |
| 發明（設計）人： | 黃志宏 | 申請（專利權）人： | 溫州職業技術學院 |
| 主分類號： | C23C16/26 | 分類號： | C23C16/26;C23C16/503 |
| 代理公司： | 武漢華強專利代理事務所(普通合伙) 42237 | 代理人： | 溫珊姍 |
| 地址： | 325035 浙江省溫州市甌海*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 孿生 負載 中頻 交流 pecvd 沉積 dlc 涂層 方法 | ||
1.孿生負載中頻交流PECVD沉積DLC涂層的方法，其特征是，包括：
真空腔內布置第一組工件和第二組工件，第一組工件中所有工件電連接，第二組工件中所有工件電連接；所述第一組工件和所述第二組工件中的工件數量均為n，且所述第一組工件和所述第二組工件的相對位置關系應滿足條件：通過對第一組工件進行旋轉或平移，可使第一組工件和第二組工件有規律地重合；
以中頻交流電源為等離子體激發源，所述中頻交流電源的兩極分別連接第一組工件和第二組工件；
對真空腔抽真空并通入源氣體，開啟中頻交流電源，采用PECVD在工件上沉積DLC涂層；
通過對第一組工件進行旋轉，可使第一組工件和第二組工件有規律地重合，具體為：
將2n個工件等間距地布置成以真空腔中心軸為中心的圓形，選定任一工件為起點，按同一方向對2n個工件順次編號，奇數編號的工件電相連作為第一組工件，偶數編號的工件電相連作為第二組工件；
通過對第一組工件進行平移，可使第一組工件和第二組工件有規律地重合，具體為：
將2n個工件平行且等間距地布置于真空腔內，并順序編號；奇數編號的工件電相連作為第一組工件，偶數編號的工件電相連作為第二組工件。
2.如權利要求1所述的孿生負載中頻交流PECVD沉積DLC涂層的方法，其特征是：
所述工件為手機蓋板。
3.如權利要求1所述的孿生負載中頻交流PECVD沉積DLC涂層的方法，其特征是：
所述工件為手表殼。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
