[發明專利]一種高性能釹鐵硼燒結磁體制備方法及微觀結構有效
| 申請號： | 202010642162.0 | 申請日： | 2020-07-06 |
| 公開（公告）號： | CN113096947B | 公開（公告）日： | 2023-02-10 |
| 發明（設計）人： | 陳秀雷;彭眾杰;董占吉;丁開鴻 | 申請（專利權）人： | 煙臺首鋼磁性材料股份有限公司 |
| 主分類號： | H01F41/02 | 分類號： | H01F41/02 |
| 代理公司： | 亳州速誠知識產權代理事務所(普通合伙) 34157 | 代理人： | 張輝 |
| 地址： | 265500 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 性能 釹鐵硼 燒結 磁體 制備 方法 微觀 結構 | ||
1.一種高性能釹鐵硼燒結磁體制備方法，其特征在于包括以下步驟：
步驟1、按照多元合金中的元素比例配料，使用真空感應爐制備多元合金鑄錠，再將多元合金鑄錠使用真空甩帶爐制成多元合金薄帶；
所述多元合金的原子比化學式為PraRHbGacCud，其中Pr為鐠元素，RH為鏑或鋱元素中的至少一種，Ga為鎵元素，Cu為銅元素；a、b、c、d滿足關系式0.30≤（a+b）/(a+b+c+d)≤0.65，0.20≤d/(c+d) ≤0.50, 0.23≤b/(a+b) ≤0.60；
步驟2、將所述多元合金薄帶破碎成粉末后附著到釹鐵硼燒結磁體的表面；步驟2中所述釹鐵硼燒結磁體的表面是指垂直于取向方向的面；
步驟3、對附著多元合金粉末后的釹鐵硼燒結磁體進行高溫擴散處理和低溫時效處理，得到擴散后的釹鐵硼燒結磁體；所述的高溫擴散的溫度范圍為720℃~980℃，擴散時間為5~25小時；低溫時效處理溫度范圍為480℃~680℃，處理時間為1~10小時。
2.根據權利要求1所述的一種高性能釹鐵硼燒結磁體制備方法，其特征在于：步驟2中所述多元合金薄帶破碎后的粉末平均粒度為10μm-1000μm。
3.根據權利要求1所述的一種高性能釹鐵硼燒結磁體制備方法，其特征在于：步驟2中所述多元合金薄帶破碎后的粉末平均粒度為50μm-600μm。
4.根據權利要求1-3任一項所述的一種高性能釹鐵硼燒結磁體制備方法制得的磁體，其特征在于：主相顆粒外圍通過擴散方式引入的鋱或/和鏑元素的分布區域均位于通過擴散方式引入的鐠元素的分布區域范圍之內。
5.根據權利要求1-3任一項所述的一種高性能釹鐵硼燒結磁體制備方法制得的磁體，其特征在于：通過擴散方式引入的鋱或/和鏑元素在磁體中的分布深度不低于400μm。
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