[發(fā)明專利]一種聲學(xué)聚焦分?jǐn)?shù)渦旋場(chǎng)發(fā)射器

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010641570.4
• 申請(qǐng)日: 2020-07-06
• 公開（公告）號(hào): CN111785244A
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳帝超;吳大建;賈雨柔;朱興鳳;魏琦
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京師范大學(xué)
• 主分類號(hào): G10K11/26
• 分類號(hào): G10K11/26
• 代理公司: 北京知元同創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11535
• 代理人: 劉元霞

1.一種聲學(xué)聚焦分?jǐn)?shù)渦旋場(chǎng)發(fā)射器，其特征在于：包括一個(gè)結(jié)構(gòu)板，所述結(jié)構(gòu)板上設(shè)置有按同中心軸方式設(shè)置的第一組螺線槽以及第二組螺線槽，第二組螺線槽位于第一組螺線槽的外圍，且在第二組螺線槽距離中心軸最近的螺旋線與第一組螺線槽距離中心軸最遠(yuǎn)的螺旋線之間設(shè)置預(yù)設(shè)間距。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聲學(xué)聚焦分?jǐn)?shù)渦旋場(chǎng)發(fā)射器，其特征在于：所述結(jié)構(gòu)板的聲阻抗與背景媒質(zhì)的聲阻抗至少相差20倍。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的聲學(xué)聚焦分?jǐn)?shù)渦旋場(chǎng)發(fā)射器，其特征在于：所述第一組螺線槽以及第二組螺線槽均包括一個(gè)螺線槽，第一組螺線槽的兩根螺線r_I和r_II的方程分別為和r_II(θ)＝r_I(θ)+d，第二組螺線槽的兩根螺線r_III和r_IV的方程為和r_IV(θ)＝r_III(θ)+d，其中d為第一組螺線槽以及第二組螺線槽的寬度，所述寬度小于入射波長，g為入射波長，r₀為第一組螺線槽的初始半徑，r₁為第二組德螺線槽的初始半徑，N為第一組螺線槽以及第二組螺線槽中兩根螺線的圈數(shù)，m為拓?fù)浜蓴?shù)，在0到1之間任意取值；θ的取值0從到2π/m。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的聲學(xué)聚焦分?jǐn)?shù)渦旋場(chǎng)發(fā)射器，其特征在于：所述第一組螺線槽以及第二組螺線槽均包括2個(gè)螺線槽，其中，

第一組螺線槽的第1個(gè)螺線槽的兩根螺線r_I和r_II的方程分別為和r_II(θ)＝r_I(θ)+d，此時(shí)θ的取值從0到2π/m；m為拓?fù)浜蓴?shù)，在1到2之間任意取值；r₀為第一組螺線槽的初始半徑；第一組螺線槽的第2個(gè)螺線槽的兩根螺線r_III和r_IV的方程分別為和r_IV(θ)＝r_III(θ)+d，此時(shí)θ的取值從2π/m到2π；

第二組螺線槽的第1個(gè)螺線槽的兩根螺線r′_I和r′_II的方程分別為和r′_II(θ)＝r′_I(θ)+d，此時(shí)θ的取值從0到2π/m；r₁為第二組螺線槽的初始半徑，第二組螺線槽的第2個(gè)螺線槽的兩根螺線r′_III和r′_IV的方程分別為和r′_IV(θ)＝r′_III(θ)+d，此時(shí)θ的取值從0到2π/m；其中d為第一組螺線槽以及第二組螺線槽的寬度，所述寬度小于入射波長，N為第一組螺線槽以及第二組螺線槽的圈數(shù)，g設(shè)置為入射波長。