[發(fā)明專利]指紋識別組件、顯示模組以及電子設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010638955.5 | 申請日: | 2020-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN111797767A | 公開(公告)日: | 2020-10-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡宇浩;林春榮;陳國照 | 申請(專利權(quán))人: | 廈門天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 張永玉 |
| 地址: | 361101 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 指紋識別 組件 顯示 模組 以及 電子設(shè)備 | ||
1.一種指紋識別組件,包括:
波傳輸層,在上表面設(shè)置有指紋識別區(qū);
波源單元,連接于所述波傳輸層,并包括波源,所述波源向所述波傳輸層提供用于指紋識別的波信號;
多個波信號接收單元,設(shè)置在所述波傳輸層的下表面?zhèn)龋邮諒乃霾ㄔ磫卧肷渲了霾▊鬏攲硬乃鲋讣y識別區(qū)反射的波信號;以及
篩選結(jié)構(gòu),所述篩選結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述波傳輸層和所述波源單元中的一者的端面中的至少一部分上,并且在將所述篩選結(jié)構(gòu)、所述波源單元以及所述指紋識別區(qū)正投影到所述波傳輸層的上表面而形成的正投影面上,所述篩選結(jié)構(gòu)和所述波源單元的投影位于所述指紋識別區(qū)的投影的同一側(cè),所述篩選結(jié)構(gòu)包括波選取膜,所述波選取膜使得從所述波源單元入射到的波信號傳輸至所述波傳輸層的表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋識別組件,其中,
所述篩選結(jié)構(gòu)還包括濾波膜,所述濾波膜與所述波選取膜在與所述波傳輸層的上下表面垂直的垂直方向上并排設(shè)置在所述端面上,所述濾波膜將從所述波源單元入射的波信號過濾掉。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的指紋識別組件,其中,
在所述正投影面上,所述波源單元的投影位于所述篩選結(jié)構(gòu)的投影與所述指紋識別區(qū)的投影之間,
所述波選取膜為反射膜,所述濾波膜為透射膜,
從所述波源單元入射至所述反射膜的波信號被反射到所述波傳輸層的上下表面中的一個上,從所述波源單元入射至所述透射膜的波信號透過所述透射膜射出所述波傳輸層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的指紋識別組件,其中,
所述篩選結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述波傳輸層的所述端面,
所述波源單元連接于所述波傳輸層的下表面或埋設(shè)于所述波傳輸層內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的指紋識別組件,其中,
所述篩選結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述波源單元的所述端面,
所述波源單元以所述端面遠(yuǎn)離所述指紋識別區(qū)的姿態(tài)連接于所述波傳輸層的一端面或所述下表面上、或者埋設(shè)于所述波傳輸層內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的指紋識別組件,其中,
在所述正投影面上,所述篩選結(jié)構(gòu)的投影位于所述波源單元的投影與所述指紋識別區(qū)投影之間,
所述波選取膜為透射膜,所述濾波膜為反射膜,
從所述波源單元入射至所述透射膜的波信號被透射到所述波傳輸層的上下表面中的一個上,從所述波源單元入射至所述反射膜的波信號被反射出所述波傳輸層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的指紋識別組件,其中,
所述篩選結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述波傳輸層的所述端面,
所述波源單元連接于所述端面上。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的指紋識別組件,其中,
所述篩選結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述波源單元的所述端面,
所述波源單元以所述端面靠近所述指紋識別區(qū)的姿態(tài)連接于所述波傳輸層的一端面或者埋設(shè)于所述波傳輸層內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項所述的指紋識別組件,其中,
設(shè)置有所述篩選結(jié)構(gòu)的所述端面垂直于所述波傳輸層的上下表面,
所述篩選結(jié)構(gòu)中的所述波選取膜與所述波源在與所述波傳輸層的上下表面垂直的垂直方向上的距離L,和所述波源與所述端面在與所述波傳輸層的上下表面平行的方向上的距離H滿足關(guān)系式1:
L≤H*tan(90°-θ) 式1,
其中,θ為在所述波傳輸層內(nèi)發(fā)生全反射的臨界角。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的指紋識別組件,其中,
所述篩選結(jié)構(gòu)還包括:過渡膜,層疊于所述波選取膜及濾波膜與設(shè)置所述篩選結(jié)構(gòu)的所述端面之間;以及保護(hù)膜,層疊于所述波選取膜及濾波膜的遠(yuǎn)離所述過渡膜的表面。
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