[發明專利]用于添加式地制造三維構件的設備

在審

• 申請號: 202010638766.8
• 申請日: 2017-08-01
• 公開（公告）號: CN111745964A
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發明（設計）人: F·赫爾佐克;F·貝希曼;P·龐蒂勒-許穆拉
• 申請（專利權）人: CL產權管理有限公司
• 主分類號: B29C64/153
• 分類號: B29C64/153;B29C64/357;B22F3/105;B28B1/00;B07B7/01;B07B7/04;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y40/00
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 徐穎聰

1.一種用于添加式地制造三維構件的設備，其特征在于，所述設備包括：

過程室；

流動產生裝置，所述流動產生裝置構造成使氣體流流過所述過程室，所述氣體流收集來自所述過程室的建造材料顆粒；

分離裝置，所述分離裝置構造成接收已收集來自所述過程室的所述建造材料顆粒之后的所述氣體流，其中所述分離裝置包括：

粉末模塊，所述粉末模塊包括限定粉末室的一個或多個粉末室壁和從所述一個或多個粉末室壁中的至少一個延伸到所述粉末室的分離元件，其中，相對于從所述過程室流入所述分離裝置的所述氣體流的橫向方向，在所述分離元件的上游部分和所述一個或多個粉末室壁的上游部分之間限定間隙；和

豎直定向的流動通道，所述豎直定向的流動通道限定布置在所述分離元件上方的第一分離段，其中，所述分離元件限定第二分離段，所述第二分離段占據所述粉末室的上部分，并且其中，所述間隙限定進入占據所述分離元件下方的所述粉末室的下部分的第三分離段的路徑；

其中，當所述氣體流從所述過程室流入所述分離裝置時，第一建造材料顆粒組分和第二建造材料顆粒組分隨所述氣體流流過所述間隙，第三建造材料顆粒組分通過所述間隙進入所述第三分離段，并且所述第一建造材料顆粒組分隨所述氣體流流入所述豎直定向的流動通道并且進入所述第一分離段，所述第二建造材料顆粒組分進入所述第二分離段。

2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，其中：

所述第一建造材料顆粒組分具有低于顆粒尺寸下限的顆粒尺寸分布，和/或低于顆粒密度下限的顆粒密度分布；和/或

所述第二建造材料顆粒組分具有高于所述顆粒尺寸下限且低于顆粒尺寸上限的顆粒尺寸分布，和/或高于所述顆粒密度下限且低于顆粒密度上限的顆粒密度分布；和/或

所述第三建造材料顆粒組分具有高于所述顆粒尺寸上限的顆粒尺寸分布，和/或高于所述顆粒密度上限的顆粒密度分布。

3.根據權利要求1或2所述的設備，其特征在于，包括：

涂覆裝置，所述涂覆裝置構造成形成建造材料層，其中所述粉末模塊限定收集或溢流模塊，所述收集或溢流模塊構造成當用所述涂覆裝置形成所述建造材料層時接收建造材料溢流。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的設備，其特征在于，包括：

過濾裝置，所述過濾裝置連接在所述豎直定向的流動通道的下游，所述過濾裝置構造成將所述第一建造材料顆粒組分與所述氣體流分離。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的設備，其特征在于，其中所述分離元件在至少一個運動自由度上相對于所述一個或多個粉末室壁中的至少一個和/或相對于所述粉末室的底部被可動地支承。

6.根據權利要求5所述的設備，其特征在于，其中所述間隙的跨度能夠通過所述分離元件相對于所述一個或多個粉末室壁中的所述至少一個和/或相對于所述粉末室的所述底部的運動被改變。

7.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，包括：

附加的流動產生裝置，所述附加的流動產生裝置構造成產生影響至少所述第二建造材料顆粒組分在所述第二分離段的方向上流動的輸送流。

8.根據權利要求7所述的設備，其特征在于，其中由所述附加的流動產生裝置產生的所述輸送流構造成影響至少所述第二建造材料顆粒組分在所述間隙上流動。