[發(fā)明專利]一種可飽和吸收體系統(tǒng)、制備方法及激光脈沖設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010638710.2
• 申請日: 2020-07-06
• 公開（公告）號: CN111740304B
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 康喆;李振偉;劉承志;秦冠仕;秦偉平
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院國家天文臺長春人造衛(wèi)星觀測站
• 主分類號: H01S3/098
• 分類號: H01S3/098;H01S3/067;H01S3/0941
• 代理公司: 北京恒和頓知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11014
• 代理人: 王文成

1.一種可飽和吸收體系統(tǒng)，其特征在于，所述可飽和吸收體系統(tǒng)包括：

材料制備部分和器件部分；

所述材料制備部分包括容器本體、材料注入口A、材料注入口B、溶液注入口、攪拌裝置、攪拌器件、閥門拉動開關(guān)A；

材料注入口A和B分別位于容器本體的兩側(cè)，用于不同材料的注入；攪拌器件與攪拌裝置結(jié)合在一起，用于將材料A、B的均勻混合；混合后的溶液通過溶液注入口進入到飽和吸收體器件部分，通過控制拉動閥門開關(guān)A的速度控制混合溶液的輸入量；

所述器件部分包括光纖接口、器件支架及底座A、器件支架及底座B、飽和吸收體器件、閥門拉動開關(guān)B、溶液輸出口；

器件部分置于光纖激光器中，光纖接口用于連接兩端輸入及輸出光纖，傳導(dǎo)光信號；器件支架及底座A、B用于將飽和吸收體器件固定在光學(xué)平臺或者激光器底板；需要更換飽和吸收體溶液時，將廢棄溶液通過溶液輸出口排出，通過控制拉動閥門開關(guān)B的速度控制混合溶液的排出量。

2.如權(quán)利要求1所述的可飽和吸收體系統(tǒng)，其特征在于，材料制備部分中，所述容器采用光纖FC/PC結(jié)構(gòu)，所述容器的材質(zhì)是鋁、鐵或鎂鋁合金中的任意一種。

3.如權(quán)利要求1所述的可飽和吸收體系統(tǒng)，其特征在于，材料制備部分中，所述材料注入口A用于注入不同的飽和吸收體材料；所述材料注入口B則為表面活性劑材料注入端口。

4.如權(quán)利要求3所述的可飽和吸收體系統(tǒng)，其特征在于，所述飽和吸收體材料為碳納米材料、金納米材料、拓撲絕緣體材料或硫化銅納米材料中的任意一種或幾種。

5.如權(quán)利要求3所述的可飽和吸收體系統(tǒng)，其特征在于，所述表面活性劑是水、乙醇、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、羧甲基纖維素鈉(NaCMC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯醇(PVA)、SU8聚合物或苯乙烯二甲基丙烯酸甲酯共聚物(SMMA)中的任意一種或幾種。

6.如權(quán)利要求3所述的可飽和吸收體系統(tǒng)，其特征在于，所述飽和吸收體材料和表面活性劑的混合比例是0.01～100。

7.如權(quán)利要求1所述的可飽和吸收體系統(tǒng)，其特征在于，器件部分中，所述光纖接口是普通單模光纖、保偏光纖或多模光纖中的任意一種。

8.如權(quán)利要求1所述的可飽和吸收體系統(tǒng)，其特征在于，所述溶液注入速度為0.01mL/s～1L/s，溶液排出速度為0.01mL/s～1L/s。

9.一種如權(quán)利要求1～8任意一項所述的可飽和吸收體系統(tǒng)的制備方法，其特征在于，所述可飽和吸收體系統(tǒng)的制備方法包括以下步驟：

步驟一，采用“晶種法”合成制備出金納米材料，將10mL金納米材料通過材料注入口A注入混合容器中；

步驟二，將濃度為1.5wt％的羧甲基纖維素鈉(NaCMC)水溶液按體積比為1:1的比例通過材料注入口注入進混合容器中，并在混合容器中進行均勻攪拌；

步驟三，通過控制閥門拉動開關(guān)A，將5～10mL步驟二得到的混合溶液注入到飽和吸收體器件中，完成飽和吸收體器件的制備。

10.一種搭載權(quán)利要求1～8任意一項所述的可飽和吸收體系統(tǒng)的搭載脈沖激光設(shè)備。