[發明專利]一種顯示面板及其制作方法在審
| 申請號: | 202010638526.8 | 申請日: | 2020-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN111864101A | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發明(設計)人: | 黃茜 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 高楊麗 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
薄膜晶體管陣列基板;
陽極,所述陽極設置在所述薄膜晶體管陣列基板上;
像素定義層,所述像素定義層設置在所述陽極和所述薄膜晶體管陣列基板上,所述像素定義層包括第一區域和第二區域,其中,所述第一區域設置有開口,所述開口的底部與所述陽極相連,所述第二區域設置有多個凹槽;
發光層,所述發光層設置于所述開口內;
陰極,所述陰極覆蓋所述發光層和所述像素定義層;
封裝層,所述封裝層覆蓋所述陰極。
2.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽是通過移印工藝形成的。
3.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽包括第一凹槽和至少一個第二凹槽,其中,所述第二凹槽的開口位于所述第一凹槽的側壁和/或底部。
4.根據權利要求1至3任一項所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽的深度小于所述像素定義層的厚度。
5.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括填充層,所述填充層覆蓋所述凹槽的至少一部分。
6.根據權利要求5所述的顯示面板,其特征在于,所述填充層的材料包括無機材料。
7.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
步驟A:形成薄膜晶體管陣列基板;
步驟B:形成陽極,所述陽極設置在所述薄膜晶體管陣列基板上;
步驟C:形成像素定義層,所述像素定義層包括第一區域和第二區域,其中,所述第一區域設置有開口,所述第二區域設置有多個凹槽;
步驟D:形成發光層,所述發光層設置于所述開口內;
步驟E:形成陰極,所述陰極覆蓋所述發光層和所述像素定義層;
步驟F:形成封裝層,所述封裝層覆蓋所述陰極。
8.根據權利要求7所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述步驟C包括:
步驟c1:形成像素定義材料層;
步驟c2:圖案化所述第一區域,以形成所述開口;
步驟c3:利用移印工藝對所述第二區域進行處理,以形成所述凹槽,其中,所述凹槽包括第一凹槽和至少一個第二凹槽,所述第二凹槽的開口位于所述第一凹槽的側壁和/或底部。
9.根據權利要求7或8任一項所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述步驟C之后,還包括步驟G:
形成填充層,所述填充層覆蓋所述凹槽的至少一部分。
10.根據權利要求9所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述填充層的材料包括無機材料。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





