[發明專利]一種水平驅動的基片預處理裝置

在審

• 申請號: 202010638124.8
• 申請日: 2020-07-04
• 公開（公告）號: CN111763925A
• 公開（公告）日: 2020-10-13
• 發明（設計）人: 劉永
• 申請（專利權）人: 劉永
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46;C23C16/458;C23C16/52
• 代理公司: 藍天知識產權代理(浙江)有限公司 33229
• 代理人: 郭亞銀

1.一種水平驅動的基片預處理裝置，其特征在于：包括預處理箱(10)、工藝箱(20)和水平傳送裝置(60)；預處理箱(10)位于工藝箱(20)的左側；預處理箱(10)的內底部設置有溫度控制單元(50)；溫度控制單元(50)用于基片(70)加熱或者冷卻；預處理箱(10)的左側壁上成型有預處理進料口(100)、右側壁上成型有預處理出料口(101)；工藝箱(20)的左側壁上成型有工藝處理進出口(200)；預處理箱(10)的左端面上升降設置有左封閉板(30)；左封閉板(30)用于密封預處理進料口(100)；工藝箱(20)和預處理箱(10)之間升降設置有右封閉板(40)；右封閉板(40)用于密封預處理出料口(101)和工藝處理進出口(200)；預處理箱(10)的前后側壁下部分別成型有左水平導塊(11)；工藝箱(20)的前后側壁下部分別成型有右水平導塊(21)；一對左水平導塊(11)和一對右水平導塊(21)處于同一水平面上并且左水平導塊(11)和右水平導塊(21)的豎直橫截面相同；水平傳送裝置(60)包括水平傳送單元和上下料單元；水平傳送單元包括左右移動設置在預處理箱(10)的上部的水平傳送座(63)和左右移動設置在預處理箱(10)和工藝箱(20)內的基片安置座(65)；基片安置座(65)為開口于朝右設置的“凵”字形狀；基片安置座(65)的前后端面分別成型有與左水平導塊(11)和右水平導塊(21)配合的水平導槽；水平傳送座(63)上固定有若干前后均勻分布的限位氣缸(64)；限位氣缸(64)的活塞桿下端固定有限位插柱(641)；基片安置座(65)的左端和右端分別成型有若干供限位插柱(641)配合的限位插孔(650)；上下料單元包括左右移動在工藝箱(20)的底面的上下料座(67)；上下料座(67)針對基片安置座(65)的開口并且上下料座(67)前后寬度小于基片安置座(65)的開口寬度；上下料座(67)的上側升降設置有升降上下料板(69)。

2.根據權利要求1所述的一種水平驅動的基片預處理裝置，其特征在于：預處理箱(10)的左右側壁上端之間樞接有左右驅動螺紋桿(62)；預處理箱(10)的左側壁上端固定有左右驅動電機(61)；左右驅動螺紋桿(62)的左端與左右驅動電機(61)的輸出軸固定連接；水平傳送座(63)螺接在左右驅動螺紋桿(62)上；水平傳送座(63)的上端面與預處理箱(10)的內頂部接觸。

3.根據權利要求1所述的一種水平驅動的基片預處理裝置，其特征在于：工藝箱(20)的右側壁下端固定有左右驅動氣缸(66)；上下料座(67)固定在左右驅動氣缸(66)的活塞桿左端。

4.根據權利要求1所述的一種水平驅動的基片預處理裝置，其特征在于：上下料座(67)上固定有升降氣缸(68)；升降上下料板(69)固定在升降氣缸(68)的活塞桿上端；當升降上下料板(69)處于最下端時，升降上下料板(69)的上端面低于基片安置座(65)的上端面。

5.根據權利要求1所述的一種水平驅動的基片預處理裝置，其特征在于：預處理箱(10)的前后側壁下部之間成型有一對左右對稱設置的限位支撐板(12)；限位支撐板(12)上固定有若干均勻分布的彈簧柱塞(13)；基片安置座(65)的底面上成型有若干與彈簧柱塞(13)的鋼珠配合的半球形槽狀的限位槽(651)；當基片安置座(65)處于預處理箱(10)內時，彈簧柱塞(13)的鋼珠插入到相應側的限位槽(651)內。

6.根據權利要求1所述的一種水平驅動的基片預處理裝置，其特征在于：基片安置座(65)的一對橫向部分別成型有上下貫穿的透氣孔(652)。