[發明專利]文字對象評價方法、裝置和電子設備在審
| 申請號: | 202010637434.8 | 申請日: | 2020-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN111797822A | 公開(公告)日: | 2020-10-20 |
| 發明(設計)人: | 馮瑞豐 | 申請(專利權)人: | 北京字節跳動網絡技術有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/20 | 分類號: | G06K9/20;G06K9/32;G06K9/68;G06N20/00 |
| 代理公司: | 泰和泰律師事務所 51219 | 代理人: | 祝海燕 |
| 地址: | 100041 北京市石景山區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 文字 對象 評價 方法 裝置 電子設備 | ||
1.一種文字對象評價方法,其特征在于,包括:
接收用戶上傳的待評價圖像,其中,所述待評價圖像中包含預定書法字體的待評價文字對象;
確定所述待評價文字對象中是否存在書寫不規范的筆畫、偏旁和結構間距;
響應于所述待評價文字對象中存在書寫不規范的筆畫、偏旁和結構間距,基于所述書寫不規范的筆畫、偏旁和結構間距,向所述用戶反饋表征所述待評價文字對象書寫不規范的書寫評價信息。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述確定所述待評價文字對象中是否存在書寫不規范的筆畫、偏旁和結構間距,包括:
基于所述待評價文字對象的結構圖譜和基準文字對象的基準結構圖譜,確定所述待評價文字對象和所述基準文字對象的筆畫差異值、偏旁差異值、結構間距差異值,其中,所述基準文字對象和所述待評價文字對象表征同一個文字,所述結構圖譜中包含所述待評價文字對象的筆畫、偏旁和結構間距;
根據所述筆畫差異值、所述偏旁差異值和所述結構間距差異值,確定所述待評價文字對象中是否存在書寫不規范的筆畫、偏旁和結構間距。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述基于所述待評價文字對象的結構圖譜和基準文字對象的基準結構圖譜,確定所述待評價文字對象和所述基準文字對象的筆畫差異值、偏旁差異值、結構間距差異值,包括:
基于預先訓練的分析模型,確定所述待評價文字對象和所述基準文字對象的筆畫差異值、偏旁差異值、結構間距差異值,其中,所述分類模型基于所述結構圖譜和所述基準結構圖譜,確定所述筆畫差異值、偏旁差異值和結構間距差異值。
4.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述分析模型的訓練樣本包括樣本圖像和樣本差異值,所述樣本圖像中包含樣本文字對象,所述樣本差異值包括所述樣本文字對象和樣本基準文字對象的樣本筆畫差異值、樣本偏旁差異值和樣本結構間距差異值。
5.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述結構間距差異值包括:所述待評價文字對象的結構間距和所述基準文字對象的結構間距之間的差值。
6.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述結構圖譜由所述分析模型針對所述待評價圖像所構建。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基準結構圖譜從預設的結構圖譜集合中選取。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述書寫不規范的筆畫、偏旁和結構間距,向所述用戶反饋表征所述待評價文字對象書寫不規范的書寫評價信息,包括:
確定所述書寫不規范的筆畫、偏旁、結構間距對應的筆畫評價信息、偏旁評價信息、結構間距評價信息;
基于所述筆畫評價信息、所述偏旁評價信息和所述結構間距評價信息,向所述用戶反饋表征所述待評價文字對象書寫不規范的書寫評價信息。
9.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
響應于所述待評價文字對象中不存在書寫不規范的筆畫、偏旁和結構間距,向所述用戶反饋表征所述待評價文字對象書寫規范的書寫評價信息。
10.一種文字對象評價裝置,其特征在于,包括:
接收單元,用于接收用戶上傳的待評價圖像,其中,所述待評價圖像中包含預定書法字體的待評價文字對象;
確定單元,用于確定所述待評價文字對象中是否存在書寫不規范的筆畫、偏旁和結構間距;
第一反饋單元,用于響應于所述待評價文字對象中存在書寫不規范的筆畫、偏旁和結構間距,基于所述書寫不規范的筆畫、偏旁和結構間距,向所述用戶反饋表征所述待評價文字對象書寫不規范的書寫評價信息。
11.一種電子設備,其特征在于,包括:
一個或多個處理器;
存儲裝置,用于存儲一個或多個程序,
當所述一個或多個程序被所述一個或多個處理器執行,使得所述一個或多個處理器實現如權利要求1-9中任一所述的方法。
12.一種計算機可讀介質,其上存儲有計算機程序,其特征在于,該程序被處理器執行時實現如權利要求1-9中任一所述的方法。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京字節跳動網絡技術有限公司,未經北京字節跳動網絡技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010637434.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





