[發(fā)明專利]一種旋轉升降的化學機械研磨防濺罩

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010636922.7
• 申請日: 2020-07-04
• 公開（公告）號: CN111890218B
• 公開（公告）日: 2021-09-03
• 發(fā)明（設計）人: 劉永
• 申請（專利權）人: 林燕
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00;B24B37/34;B24B41/02;B24B41/04;B24B47/12;B24B55/04;B24B57/02
• 代理公司: 藍天知識產權代理(浙江)有限公司 33229
• 代理人: 郭亞銀

本發(fā)明公開了一種旋轉升降的化學機械研磨防濺罩，上支撐架的上端面低于研磨平臺的上端面；上支撐架的底面上成型有同軸設置的圓環(huán)狀的擋水環(huán)；上支撐架的內圓柱面上成型有內螺紋；旋轉支撐座的外圓柱面上成型有與上支撐架的內螺紋配合的外螺紋；旋轉支撐座的內圓柱面下端成型有同軸設置的圓環(huán)狀的下支撐環(huán)；下支撐環(huán)上固定有防濺罩；防濺罩由上部的縮口部和下部的上窄下寬的漏斗狀的下阻擋部組成；下阻擋部的上端開口的內徑與縮口部的內徑相同；縮口部的內徑大于研磨平臺的直徑。

技術領域

本發(fā)明涉及化學機械研磨的技術領域，具體涉及一種旋轉升降的化學機械研磨防濺罩。

背景技術

化學機械拋光(CMP)工藝又稱化學機械平坦化工藝或化學機械研磨工藝，是目前主流的拋光工藝，用于降低晶圓表面粗糙度或對晶圓進行減薄?；瘜W機械拋光機臺在進行研磨作業(yè)的過程中，旋轉的研磨平臺會將廢液從研磨平臺的表面甩向研磨平臺的四周，這些廢液中含有大量的研磨液成分，因此，當廢液揮發(fā)后會析出大量結晶物，這些結晶物不僅對化學拋光機臺上的各運動部件造成阻礙，還會對金屬部件造成腐蝕，影響到機臺的使用壽命。

在現有技術中，通過在研磨平臺的四周增設一防濺罩來阻擋廢液甩濺到平臺周圍的部件上，防濺罩環(huán)繞在研磨平臺的四周設置，且罩體采用塑料材質，防濺罩與三個位于不同方位的氣缸固定連接，且連接方式采用氣缸與防濺罩點接觸的方式，當研磨頭與研磨平臺配合進行研磨作業(yè)時，防濺罩需要在氣缸的帶動下升起，從而罩住研磨平臺，研磨平臺進行研磨作業(yè)過程中甩出的廢液便會被防濺罩承接，然后順著防濺罩流向排水口排走；當研磨作業(yè)完成后，研磨頭需要轉動至下一止點，此時，氣缸帶動防濺罩下降至研磨平臺以下，以避免妨礙到研磨頭的轉動。在這個過程中，由于防濺罩是一個整體，因此對帶動防濺罩的3個氣缸驅動的同步性要求很高，如果任意1個氣缸因故障導致上下運動速度和其他氣缸不一致，就會導致防濺罩受到扯拽，導致罩體扭曲變形，甚至損壞。變形的防濺罩又會反過來對氣缸進行擠壓拉扯，降低氣缸的使用壽命。

本發(fā)明提供一種防濺罩，可以在有效阻擋各種工作機臺甩濺出來的液體的同時，防止防濺罩變形，提高機臺的使用壽命，并節(jié)約了更換成本。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的是現在的防濺罩容易變形，壽命短的技術問題，提供了一種旋轉升降的化學機械研磨防濺罩。

本發(fā)明解決上述技術問題的技術方案如下：一種旋轉升降的化學機械研磨防濺罩，包括防濺罩本體；防濺罩本體包括圓環(huán)柱體狀的旋轉支撐座和上端開口設置的圓筒狀的上支撐架；研磨平臺位于上支撐架的開口內；上支撐架和研磨平臺兩者的旋轉中心軸共線；上支撐架的上端面低于研磨平臺的上端面；上支撐架的底面中心成型有供研磨平臺的旋轉軸穿過的避讓孔；上支撐架的底面上成型有同軸設置的圓環(huán)狀的擋水環(huán)；上支撐架的內圓柱面上成型有內螺紋；旋轉支撐座的外圓柱面上成型有與上支撐架的內螺紋配合的外螺紋；旋轉支撐座的內圓柱面下端成型有同軸設置的圓環(huán)狀的下支撐環(huán)；下支撐環(huán)上固定有防濺罩；防濺罩由上部的圓環(huán)柱體狀的縮口部和下部的上窄下寬的漏斗狀的下阻擋部組成；下阻擋部的上端開口的內徑與縮口部的內徑相同；縮口部的內徑大于研磨平臺的直徑；當旋轉支撐座處于最下端時，旋轉支撐座的上端面與研磨平臺的上端面平齊。

作為上述技術方案的優(yōu)選，旋轉支撐座的外圓柱面上端成型有圓環(huán)狀的驅動環(huán)；驅動環(huán)的上端面與旋轉支撐座的上端面平齊；驅動環(huán)的厚度與旋轉支撐座的上端面和上支撐架的上端面之間的高度差相同。

作為上述技術方案的優(yōu)選，驅動環(huán)的直徑大于上支撐架的外徑。

作為上述技術方案的優(yōu)選，擋水環(huán)的橫截面呈倒置的L型。

作為上述技術方案的優(yōu)選，上支撐架的底面上成型有同軸設置的圓環(huán)柱體狀的下盛水部；下盛水部內成型有同軸設置的圓環(huán)柱體槽狀的盛水槽；盛水槽的頂部成型有若干向上貫穿的圓周均勻分布的落水孔；落水孔位于擋水環(huán)與上支撐架的側壁之間；盛水槽的底部設置有若干圓周均勻分布的排水管。