[發(fā)明專利]一種面向光譜基線校正的加權(quán)建模局部優(yōu)化方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010636816.9 | 申請日: | 2020-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN111999258B | 公開(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳華舟;許麗莉;林彬 | 申請(專利權(quán))人: | 桂林理工大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/3563 | 分類號: | G01N21/3563;G01N21/359;G06F17/18 |
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| 地址: | 541004 廣*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 面向 光譜 基線 校正 加權(quán) 建模 局部 優(yōu)化 方法 | ||
1.一種面向光譜基線校正的加權(quán)建模局部優(yōu)化方法,其特征在于具體步驟為:
步驟一,基于樣本化學(xué)值矩陣Cn×r,計算化學(xué)值權(quán)重矩陣Ωn×r=[ωi],i=1,2,…n,其中ωi=[ωi,j]1×r為針對第i個樣本的權(quán)重向量,且并對C進行加權(quán)運算得到加權(quán)后的化學(xué)值矩陣,記為CΩ;
步驟二,基于權(quán)重矩陣Ω對光譜數(shù)據(jù)進行預(yù)處理,光譜數(shù)據(jù)預(yù)處理的目的在于光譜降噪,考慮將化學(xué)值權(quán)重向量ωi嵌入多元散射矯正方法完成預(yù)處理,可加強針對基線偏移的校正,具體過程如下:
①計算所有樣本的加權(quán)平均光譜:
②通過每個樣本光譜Ai對平均光譜Aave按照Ai=k·Aave+1·b的線性關(guān)系進行回歸,估計回歸系數(shù)k和b;
③利用回歸系數(shù)計算得到多元散射矯正校正后的光譜:
步驟三,基于光譜數(shù)據(jù)An×p計算權(quán)重矩陣;
Δ=diag(δi),i=1,2,…n,
其中τ為偏移參數(shù),取值τ∈(0,1]),并對AMSC進行加權(quán)運算,可加強光譜特征信號的顯著性,得到加權(quán)后的光譜矩陣,記為AΔ,即AΔ=Δ·AMSC;
步驟四,聯(lián)合AΔ和CΩ,實現(xiàn)光譜建模局部優(yōu)化,具體過程如下:
①基于Lambert-Beer定律得到化學(xué)值與光譜值的線性關(guān)系其中Bp×r=[bj](j=1,2…r)為回歸系數(shù)矩陣,利用偏最小二乘算法建立光譜定標預(yù)測模型,預(yù)測目標樣本的化學(xué)值Ci′(i=1,2…n),通過計算均方根誤差,即可得到基于全譜波長的模型預(yù)測結(jié)果;
②設(shè)置PLS潛變量f在算法調(diào)試過程中的取值范圍為1≤f≤Fmax且f∈Z,通過調(diào)試不同偏最小二乘潛變量因子數(shù)f=1,2,…Fmax,對全波長變量進行特征提取可實現(xiàn)偏最小二乘降維和即時局部優(yōu)化,對于某一個確定的f取值,找到矩陣的最大特征值所對應(yīng)的特征向量σf,隨后計算加權(quán)光譜矩陣AΔ關(guān)于這個f固定取值的得分向量sf和載荷向量lf,同時估計針對f個因子數(shù)的回歸系數(shù)矩陣Br×f,其中
③歷遍所有的f取值,如果fFmax,使f=f+1進行循環(huán)求解,
得到分別基于f=1,2…Fmax個潛變量因子的多個定標模型,并根據(jù)預(yù)測均方根誤差RMSE(f)的最小值確定最優(yōu)的潛變量因子數(shù)fopt;
步驟五,根據(jù)步驟四選取的最優(yōu)潛變量因子數(shù)fopt,將加權(quán)光譜矩陣AΔ進行分解得到其對應(yīng)的得分矩陣Sopt=[s1,s2,…sfopt]和載荷矩陣Lopt=[l1,l2,…lfopt],結(jié)合化學(xué)值建立局部優(yōu)化的偏最小二乘回歸模型,估計回歸系數(shù)矩陣Bopt=[b1,b2,…bfopt],由此確定光譜加權(quán)局部優(yōu)化的定標模型,可得化學(xué)值預(yù)測值為:
該模型可用于對新來未知樣本的預(yù)測,通過采集未知樣本的光譜數(shù)據(jù),耗時僅2~3min,即可通過局部優(yōu)化模型對未知樣本進行即時分析,實現(xiàn)快速檢測。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





