[發明專利]一種基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管及其制備方法有效
| 申請號: | 202010634604.7 | 申請日: | 2020-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN111883679B | 公開(公告)日: | 2022-07-19 |
| 發明(設計)人: | 李艷青;田宇;唐建新 | 申請(專利權)人: | 蘇州大學 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海鋒 |
| 地址: | 215137 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 配比 藍光鈣鈦礦 發光二極管 及其 制備 方法 | ||
1. 一種基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管,包括從下而上依次設置的陽極襯底、空穴傳輸層、活性發光層、電子傳輸層、陰極修飾層和陰極電極,其特征在于:所述空穴傳輸層由聚(3, 4-乙烯二氧噻吩)-聚苯乙烯磺酸鈉與空穴傳輸層修飾材料構成,所述空穴傳輸層修飾材料為咪唑;所述活性發光層的材質為鈣鈦礦;所述鈣鈦礦由鈣鈦礦前驅體制備,所述鈣鈦礦前驅體由基液A、基液B和調節劑構成,所述基液A為引入 1-丁基胺氫溴酸鹽摻雜的CsPbBr3 的二亞甲砜溶液,所述基液B為(BA)2PbBr4的二亞甲砜溶液,其中BA為C4H9NH3+,所述調節劑為乙二胺、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺或其混合物。
2.根據權利要求1所述的基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管,其特征在于:基液A中,引入1-丁基胺氫溴酸鹽與CsPbBr3的摩爾比例為40~70%。
3.根據權利要求1所述的基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管,其特征在于:以溶質的摩爾比計,基液A∶基液B為30~100∶1。
4. 根據權利要求3所述的基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管,其特征在于:CsPbBr3 的濃度為0.10mM/ml~0.15mM/ml;(BA)2PbBr4的濃度為0.5mM/ml~1.0mM/ml。
5.根據權利要求1所述的基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管,其特征在于:所述調節劑溶解在二甲基亞砜中,濃度為10~20μl/ml。
6.根據權利要求1所述的基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管,其特征在于:所述咪唑的添加量≤6mg/ml。
7. 根據權利要求1所述的基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管,其特征在于:所述活性發光層的厚度為5~100nm;電子傳輸層材料為2’ ,2’-(1 ,3 ,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯),厚度為30~80nm;陰極修飾層材料為氟化鋰,厚度為0.5~2nm;陰極為鋁或銀,厚度為30~50nm。
8.權利要求1至7中任一所述基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管的制備方法,其特征在于:由下至上依次制備各層,其中,陽極襯底由氧化銦錫通過離子濺射成膜,陰極電極通過真空熱蒸鍍沉積,其余各層材料的分別采用旋涂、噴涂、刮涂、打印或真空熱蒸鍍方法制備。
9.根據權利要求8所述的基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管的制備方法,其特征在于:空穴傳輸層制備后進行退火處理,退火條件為空氣下150℃處理15分鐘,并迅速轉移至純氮氣氛中進行后續操作。
10.根據權利要求8所述的基于全溴配比的藍光鈣鈦礦發光二極管的制備方法,其特征在于:活性發光層的制備方法是,基液A、基液B和調節劑分別配置成溶液并攪拌均勻,將基液B與調節劑先后加入到基液A中,40℃下攪拌30分鐘,獲得鈣鈦礦前驅體,經旋涂成膜后退火處理;旋涂轉速為2000~4000 rpm,時長為60~120s;退火溫度為100℃,時長為1~8分鐘。
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H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
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H01L51-54 .. 材料選擇





